
关于高κ栅AlGaN/GaN MOS-HEMT中势垒层掺杂浓度与栅极金属功函数影响的论文研究.pdf
5星
- 浏览量: 0
- 大小:None
- 文件类型:None
简介:
本文探讨了在高κ栅AlGaN/GaN MOS-HEMT结构中,不同势垒层掺杂浓度及栅极金属功函数对器件性能的影响,为优化器件设计提供了理论依据。
本段落分析了HEMT器件的工作机理及基本物理模型,并进行了二维数值仿真以研究其特性。重点探讨了势垒层掺杂浓度与栅极金属功函数对高κ栅AlGaN/GaN MOS-HEMT的影响。
全部评论 (0)
还没有任何评论哟~


