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关于高κ栅AlGaN/GaN MOS-HEMT中势垒层掺杂浓度与栅极金属功函数影响的论文研究.pdf

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简介:
本文探讨了在高κ栅AlGaN/GaN MOS-HEMT结构中,不同势垒层掺杂浓度及栅极金属功函数对器件性能的影响,为优化器件设计提供了理论依据。 本段落分析了HEMT器件的工作机理及基本物理模型,并进行了二维数值仿真以研究其特性。重点探讨了势垒层掺杂浓度与栅极金属功函数对高κ栅AlGaN/GaN MOS-HEMT的影响。

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  • κAlGaN/GaN MOS-HEMT.pdf
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    本文探讨了在高κ栅AlGaN/GaN MOS-HEMT结构中,不同势垒层掺杂浓度及栅极金属功函数对器件性能的影响,为优化器件设计提供了理论依据。 本段落分析了HEMT器件的工作机理及基本物理模型,并进行了二维数值仿真以研究其特性。重点探讨了势垒层掺杂浓度与栅极金属功函数对高κ栅AlGaN/GaN MOS-HEMT的影响。
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  • AlGaN/GaN HEMT-Silvaco代码
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    本研究深入探讨了含有高折射率介质层的金属光栅偏振器特性,通过理论建模和数值模拟,揭示其在光学滤波及信息处理中的潜在应用价值。 本研究探讨了一种在可见光波段具有透射与消光特性的亚波长金属光栅偏振器,并通过在其基底和光栅之间增加一层高折射率介质薄膜,提高了TM偏振光的透射率及消光比。不同于传统设计,该改进显著提升了器件性能。 采用严格耦合波分析法(RCWA)进行了模拟计算,以研究不同厚度的高折射率介质层以及不同的光栅占宽比例对透射特性与消光效果的影响。结果显示,在整个可见光范围内,适当的介质层厚度可以使TM偏振光在0至60度入射角变化时保持79%以上的透射效率和50dB及以上的消光比。 这种亚波长金属光栅偏振器因其结构紧凑且性能优越而特别适合用于液晶平板显示器中的偏振分光组件。
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  • Silvaco仿真MOSFET特性分析:正向反向导通及阈值电压曲线和不同氧化、P区
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