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1:1逐步亚微米光刻镜头

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简介:
本项目专注于研发1:1逐步亚微米级光刻镜头,致力于实现高精度半导体制造技术突破,推动光学工程领域革新。 本段落介绍了一种数值孔径为0.4、视场范围为10×10mm²的镜头的设计及其模型实验结果。该设计基于Wynne-Dyson的1:1折反式系统进行了一些改进,专用于1:1分步投影光刻机。实验结果显示,此镜头具备亚微米级的光刻分辨率。

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    本项目专注于研发1:1逐步亚微米级光刻镜头,致力于实现高精度半导体制造技术突破,推动光学工程领域革新。 本段落介绍了一种数值孔径为0.4、视场范围为10×10mm²的镜头的设计及其模型实验结果。该设计基于Wynne-Dyson的1:1折反式系统进行了一些改进,专用于1:1分步投影光刻机。实验结果显示,此镜头具备亚微米级的光刻分辨率。
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