
PVD磁控溅射镀膜的理论探讨
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简介:
本文深入探讨了PVD(物理气相沉积)技术中的磁控溅射镀膜原理及其应用,分析了影响镀膜质量的关键因素,并提出了优化工艺的方法。
PVD磁控溅射镀膜工艺理论主要涉及利用物理气相沉积技术,在真空条件下通过磁场控制的离子轰击靶材表面,使材料原子或分子从固体状态转移到基体表面形成薄膜的技术过程。该工艺广泛应用于光学、半导体和精密仪器等领域,具有成膜质量好、效率高及适用范围广等优点。
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