改善深紫外光刻照明系统中扩束单元的光束均匀性方法

简介：
本文提出了一种优化方法，旨在提升深紫外光刻技术中扩束单元的光束均匀度，从而提高微纳制造工艺的质量和效率。 针对90纳米节点投影光刻机照明系统中的准分子激光光源扩束后出射光束均匀性较差的问题，我们采用高斯光束边缘叠加原理对反射式扩束单元进行了分析。研究发现，在平行反射式扩束单元中，出射光束之间的叠加尺寸与反射板特定区域的透射率存在矛盾，这限制了照明光束均匀性的提升。 为了克服这一问题，我们提出了一种非平行反射扩束镜组，并推导出了出射光束尺寸、子光束数量以及两面镜子楔角之间的关系式。确定了合适的楔角度值范围和扩束单元的结构形式后，通过建模分析验证了该设计不仅能够实现一维光束扩展，还有效减少了叠加光束间的干涉散斑效应，并显著提高了整体出射光束均匀性。