
CMOS集成电路中的静电防护技术分析。
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简介:
为了满足VLSI集成密度和工作速度持续提升的需求,新型集成电路的NSD保护电路设计方案层出不穷。本文将详细阐述ESD失效模式及其内在机制,并重点从工艺、器件以及电路三个维度深入探讨ESD保护模块的设计理念。静电现象在芯片的制造、封装、测试以及使用等各个环节中普遍存在,积累的静电荷以几安培甚至几十安培的电流在纳秒到微秒的时间范围内迅速释放,瞬间产生的功率可高达数千瓦,放电能量则可能达到毫焦耳级别,对芯片的承受能力构成极大的威胁。因此,在芯片设计过程中,静电保护模块的设计至关重要,直接影响着芯片的可靠性和稳定性。 伴随着工艺技术的进步,器件的特征尺寸不断减小,同时栅氧层厚度也随之相应地缩小。值得注意的是,二氧化硅的介电强度约为8×10^6 V/cm;因此,厚度为10纳米的栅氧层击穿电压大约为8伏特左右。
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