Cadence-Virtuoso入门指南

简介：
《Cadence-Virtuoso入门指南》是一本专为电子设计自动化初学者编写的教程，详细介绍Virtuoso软件的基础操作和使用技巧，帮助读者快速掌握电路设计与仿真技能。 ### Cadence-Virtuoso 的使用简介：绘制非门版图 #### 一、概述 本段落档主要介绍了如何使用Cadence-Virtuoso进行集成电路版图设计的基础操作，特别是针对一个简单的非门（Inverter）版图的绘制过程。Cadence-Virtuoso 是一款强大的电子设计自动化(EDA)工具，在集成电路的设计和验证领域得到了广泛应用。通过本教程，读者将学会创建版图文件、准备掩膜版图以及进行基本的版图编辑操作。 #### 二、建立版图文件 1. **使用 Library Manager 建立库** - 在 Virtuoso 中，首先要通过Library Manager 创建一个新的库，命名为 `myLib`。 - 当选择技术文件（Technology File）时，由于需要创建新的技术文件，则应选择 “Compile a new tech file”。此时会弹出 Load Tech File 对话框，在 ASCII Technology File 中填入 `csmc1o0.tf` 即可。 - 接下来创建名为 `inv` 的单元格（Cell），为了完整性，读者可以先建立 `inv`的原理图视图（Schematic View）和符号视图（Symbol View）。 2. **创建 Layout 视图** - 使用工具栏中的 Virtuoso Layout 功能来创建Layout 视图。具体步骤是在工具栏中选择Virtuoso Layout，然后点击OK按钮。 #### 三、绘制 Inverter 掩膜版图的准备工作 1. **打开 Layout 视图** - 在 Library Manager 中打开 `inv` 的 Layout 视图后会进入 Virtuoso Editing 窗口。该视窗包括三个主要部分：Icon Menu（图标菜单）、Menu Banner（菜单栏）和 Status Banner（状态显示栏）。 2. **了解 Virtuoso Editing 界面** - **Icon Menu** 位于版图窗口的左边，包含常用命令的图标。 - **Menu Banner** 包含编辑版图所需的各种命令，并按照相应类别分组。 - **Status Banner** 显示在菜单栏上方，显示坐标、当前编辑操作等信息。 3. **修改 LSW 层次** - 由于所需的版图层次可能不在初始LSW中存在，因此需要根据需求自定义这些层次。 - 步骤： - 切换到 CIW 窗口，在 Technology File 下拉菜单选择 “Edit Layers” 选项。 - 在Technology Library 中选择库 `myLib`，使用 Delete 功能去除不必要的层次。 - 使用 Add 添加需要的层次，例如 Nwell、Active、Pselect、Nselect、Contact、Metal1、Via、Metal2 和 Poly。 #### 四、所需版图层次介绍 1. **Nwell**：用于隔离不同电路区域的N型阱。 2. **Active**：定义晶体管工作区域的有效区。 3. **Pselect**：用于定义 P 型 MOSFET 沟道区域的 P 型注入掩膜层。 4. **Nselect**：用于定义 N 型 MOSFET 的沟道区域的 N 型注入掩膜层。 5. **Contact**：连接金属层和多晶硅或有源区的接触孔。 6. **Metal1**：第一层金属，通常用于水平布线，例如电源和地线。 7. **Via**：通孔，用于不同金属层之间的连接。 8. **Metal2**：第二层金属，通常用于垂直布线，如信号输入输出口的连线。 9. **Text**：文本标签，用于标注信息。 10. **Poly**：多晶硅层，用来制作 MOSFET 的栅极。 #### 五、总结 通过上述步骤的学习，读者已经掌握了如何使用 Cadence-Virtuoso 创建版图文件的基本流程以及进行掩膜版图的准备工作。接下来可以根据具体的设计要求进一步绘制具体的版图。在实际操作过程中，还需要熟悉更多高级功能和技巧以更高效地完成集成电路设计任务。