光刻与刻蚀工艺中的底层抗反射涂层(BARC) - 第八章 PPT课件

简介：
本PPT课件专注于半导体制造技术中关键的光刻和刻蚀步骤，重点介绍用于减少光学干涉影响的底层抗反射涂层（BARC）技术。 8.5.2 底层抗反射涂层（BARC） BARC位于衬底与光刻胶之间，由高消光率的材料构成，可以吸收穿过光刻胶层的光线。当光线照射到BARC与光刻胶之间的界面时，少量光线会被反射回光刻胶中，大部分则进入BARC内部。通过调整BARC的厚度，可以使透射光在穿越BARC的过程中形成λ/4（波长四分之一）的光程差。穿过BARC的光线会在衬底表面反射后再次经过BARC层，产生λ/2（半个波长）的相移效果，即180度相位变化。 这种相移与在BARC和光刻胶界面处反射回来的光发生干涉作用，从而减弱或抵消了这些反射光线的能量。如果BARC材料能够有效地匹配入射光线，则只有少量光线会从光刻胶/BARC界面向上反射回光刻胶中，并且这部分被反射回去的光线振幅也会减小，进而降低驻波效应的影响。 采用BARC技术虽然可以有效减少反光问题，但同时也增加了工艺复杂性以及需要额外工序来去除BARC。