2014年电子束蒸发法制备ZnS薄膜的物相与光学特性研究

简介：
本研究专注于利用电子束蒸发技术制备ZnS薄膜，深入探讨其晶体结构及光学性能，并分析不同条件下物相和光吸收特性的变化。 采用电子束蒸发法在不同衬底温度下制备了厚度约为100nm的ZnS薄膜，并利用X射线衍射（XRD）和紫外-可见光分光光度计（UV-vis Spectrophotometer）研究了这些薄膜的晶体结构与光学性能，分析了衬底温度对ZnS薄膜结构及光学特性的影响。结果表明，在不同衬底温度下制备的所有ZnS薄膜均表现出闪锌矿结构中(111)晶面优先生长的特点；当衬底温度为200℃时所制得的ZnS薄膜，其(111)晶面衍射峰强度最大、半高宽最小且晶体尺寸较大。此外，所有制备出的ZnS薄膜对可见光具有良好的透过性，并由于量子尺寸效应表现出特定光学特性。