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探索15个“为什么”以深入理解MOS器件的关键特性。

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简介:
一、E-MOSFET的阈值电压为何会随着半导体衬底掺杂浓度增加而增大,同时又随着温度升高而下降呢?【答】E-MOSFET的阈值电压本质上是指能够诱导半导体表面形成反向型层(即导电沟道)所需的栅极电压。具体而言,对于n沟道E-MOSFET来说,当施加的栅电压能够使p型半导体表面的能带向下弯曲,使得表面势ψs达到或超过半导体Fermi势ψB的两次值时,则可以判断半导体表面已经形成了强烈的反向型层。此时,反向型层中的少数载流子(电子)的浓度与体内的多数载流子浓度(近似等于掺杂浓度)相等。值得注意的是,阈值电压VT包含了三个主要的电压贡献(在不考虑衬底偏置电压的情况下):首先是栅氧化层产生的电压降Vox;其次是半导体表面附近的电压降2ΨB;最后是用于抵消MOS系统中各种电荷影响的电压。

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  • MOS15
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    本书通过十五个核心问题探讨了金属氧化物半导体(MOS)器件的关键特性,旨在帮助读者深入理解MOS技术的工作原理及其在现代电子学中的应用。 E-MOSFET的阈值电压是指使半导体表面产生反型层(即导电沟道)所需的栅极电压。对于n沟道E-MOSFET而言,当栅电压使得p型半导体表面能带向下弯曲至ψs≥2ψB时,可以认为半导体表面已强反型,此时反型层中的少数载流子浓度等于体内的多数载流子浓度(约等于掺杂浓度)。这里的ψB是半导体的Fermi势,即禁带中央与费米能级之间的差值。阈值电压VT由三部分组成:栅氧化层上的电压降Vox;以及半导体表面附近的2ΨB电位降,用于抵消MOS系统中的各种电荷影响。 关于E-MOSFET的阈值电压变化规律: 1. 随着半导体衬底掺杂浓度提高,阈值电压增大。 2. 温度升高时,阈值电压下降。
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    共模电感是一种电磁兼容元件,用于抑制信号线中的差模噪声。它具有高阻抗特性,可以有效滤除共模干扰,同时对所需传输的正常信号影响较小。 共模电感(Common mode Choke),也叫共模扼流圈,在电脑的开关电源及其他电子设备中用于过滤共模电磁干扰信号。在板卡设计中,它同样具有EMI滤波功能,可以抑制高速信号线产生的向外辐射发射。 该器件以铁氧体等材料作为磁芯,并由两个尺寸相同、匝数相同的线圈绕制而成。两线圈对称地缠绕在一个共同的环形磁芯上,且它们的绕向相反,形成一个四端设备。当差模电流通过时,产生的磁场相互抵消;而共模电流则在磁芯中叠加增强电感量,从而产生高阻抗效果以抑制干扰信号。 因此,在平衡线路系统中,共模电感能有效地减少共模噪声的同时不影响正常的差分信号传输。其特性包括极高的初始导磁率(比铁氧体材料高出5到20倍),这使其在地磁场下具有较高的阻抗和插入损耗能力,并且在整个工作频段内表现出无共振的插入损耗特征,非常适合于抑制各种干扰信号。
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    本文针对MOS器件设计中的dummy问题进行深入探讨,分析其在版图布局中的作用及优化策略,旨在提高集成电路制造质量和效率。 最近遇到了关于CMOS的dummy问题,希望各位能提供一些意见。我认为dummy MOS必须与被保护的MOS管的方向一致,即源极(S)到漏极(D)方向以及栅极方向都相同。这就需要设计者明确规定dummy MOS的尺寸:如果沿长度L考虑,则L(MOS)=L(dummy),宽度W可以不同;其中dummy MOS的W可取设计规则中的最小值。反之亦然,若按宽度W来保护,则应使W(MOS)=W(dummy), L不等,此时dummy MOS 的L同样可以采用设计规则中规定的最小尺寸。 我的想法还不太成熟,所以希望各位能批评指正,并分享你们的经验和见解。