浸没光刻机浸液温度控制系统的分析与实现.pdf

简介：
本文深入探讨了浸没光刻技术中浸液温度控制系统的设计与实现方法，详细分析了温度对光刻精度的影响，并提出了一套有效的温控解决方案。 浸没光刻机是集成电路制造的核心设备之一，在其运作过程中，维持浸液的温度稳定性对于确保工艺精度至关重要。本段落深入探讨了如何通过优化温控系统来提高这一关键环节的表现。 文章提出了一种创新性的温度控制原理：采用冷却水和热交换器相结合的方法进行温度调节。这种方式相比传统的直接加热或制冷方法更为经济高效，并且可以利用工厂现有的冷却水资源，无需额外配置昂贵的加热与制冷设备。此外，该设计还能够提供更稳定的温控效果及更强的抗干扰能力。 为提升系统的性能表现，文章提出了一种嵌套循环回路的技术方案，在这一技术中通过调节部分浸液流量来增强系统对环境温度变化的适应性，并且不会影响到最终输出的温度。具体来说，该设计在温控回路前端引入了新的控制机制——伺服阀用于调整出口处的液体流速，从而避免因外部因素导致温度波动。 为了进一步优化系统的整体性能，在结构设计阶段考虑到了与浸液处理系统之间的集成问题，并对可能影响到温度稳定性的各种部件（如污染处理器件、去气装置和流量泵）进行了详细分析。这些组件被布置在循环回路的前端，以减少它们对温控效果的影响。 经过一系列测试验证后发现，该设计能够实现22±0.01℃@30分钟内的温度控制精度水平，完全满足了用户对于高精度温控的需求，并且已经通过实际应用中的严格检验。这一成果不仅为浸没光刻机的浸液控制系统研发提供了重要的技术参考和支持，也为未来提高集成电路制造品质奠定了坚实的基础。 关键词：浸没光刻机、温度控制系统、热交换器