
应变Si PMOSFET电流特性的研究
5星
- 浏览量: 0
- 大小:None
- 文件类型:None
简介:
本研究探讨了应变硅PMOSFET的电流特性,通过引入应力技术提升器件性能,并分析其对载流子迁移率的影响。
在弛豫的SiGe层上生长的硅会产生张应变效应,从而显著提高载流子迁移率,使得应变硅PMOSFET可以实现优异性能。基于对这种器件结构特性和物理机制的研究分析,我们推导了泊松方程并建立了阈值电压模型以及电流-电压特性、跨导等电学参数的解析表达式,并利用MATLAB进行了模拟验证,结果与参考文献一致。该模型对于PMOSFET性能预测和优化具有重要价值。
全部评论 (0)
还没有任何评论哟~


