
PIN结构的集电极形成光电二极管
5星
- 浏览量: 0
- 大小:None
- 文件类型:PDF
简介:
本文介绍了通过PIN结构形成集电极区域以构建高性能光电二极管的技术方法,探讨了其在光电器件中的应用潜力。
在不改动工艺流程的前提下,N+埋层集电极可以充当光电二极管的阴极部分;同时,N型外延集电区则适合用作PIN光电二极管中的I层(即本征层),而基极注入区域可作为阳极使用。这使得在标准双极工艺中能够集成具有薄本征层结构的光电二极管。
高速双极工艺通常采用约1微米厚的N型外延层,这样的厚度会导致探测器在黄光至红外线波段(580到1100纳米)内量子效率偏低。然而,由于该薄层材料的存在,由光脉冲信号引发的光电流上升和下降时间将变得十分短暂,从而有助于提升响应速度。这类光电二极管的数据传输速率可以达到每秒十吉比特。
全部评论 (0)
还没有任何评论哟~


