
BCD工艺简介
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简介:
BCD工艺是一种集成双极型(Bipolar)、互补金属氧化物半导体(CMOS)和双扩散金属氧化物半导体(DMOS)技术于一体的集成电路制造工艺,广泛应用于模拟与数字混合信号电路。
本段落介绍了BCD(双极CMOS DMOS)工艺的原理、特点及其发展前景,并详细解释了其兼容性问题,特别强调了LDMOS的工艺原理及关键设计考虑因素。文章结合实际应用指出,BCD工艺正朝着高压、高功率和高密度三个主要方向发展,并概述了该领域的最新进展。此外,本段落还分析了电源管理和显示驱动这两个市场驱动力量,并探讨了国内企业在这一领域面临的机遇与挑战。
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