极紫外光刻物镜的组合倍率梯度膜设计

简介：
本研究聚焦于极紫外光刻技术中物镜的设计优化，特别探讨了通过创新的组合倍率与梯度膜技术来改善光学性能的方法。 随着10纳米以下光刻技术的发展，极紫外（EUV）光刻物镜正朝着超高数值孔径（NA）和组合倍率设计的方向进化。这导致了入射角及范围的显著增加，传统的规整膜和横向梯度膜已经无法满足这类系统的反射率与成像质量需求。 为解决这一问题，我们提出了一种横纵梯度膜结合的方法：利用横向梯度膜来提升反射率，并通过纵向梯度膜优化反射均匀性同时补偿由横向梯度膜引入的像差。我们将这种方法应用于一套数值孔径（NA）为0.50的组合倍率EUV光刻物镜的设计中，结果显示，在保持系统成像性能不变的前提下，每面反射镜平均反射率超过60%，且所有镜子的最大和最小反射值差异均低于3.5%。这表明该方法满足了光刻技术的要求，并验证了横纵梯度膜结合法的有效性。