光刻机行业研究框架分析10.pdf

简介：
本PDF深入探讨了光刻机行业的研究框架，涵盖了技术发展、市场趋势、竞争格局和未来前景等多方面内容。适合产业内专业人士阅读参考。 光刻机是前道工艺设备中的核心装备之一，在制造设备的投资额中占比高达23%，技术复杂度极高，涉及精密光学、运动控制及环境管理等多项先进技术。它被视为半导体工业皇冠上的明珠。 在当前全球市场环境下，ASML、尼康和佳能完全垄断了光刻机的供应，占据99%以上的市场份额。因此，在战略层面上推动国产替代显得尤为重要。根据国家02专项计划的目标，预计到2020年底将完成193纳米ArF浸没式DUV光刻机的研发，并实现其在28纳米制程工艺上的应用。鉴于此项目作为“十三五”规划的一部分，未来发展前景明确且具有重大意义。 随着国产替代战略的推进和关键技术节点的进步，我们有理由相信，在IC前道制造领域将有望初步打破国外巨头垄断的局面，从而迈出从无到有的重要一步。 对于即将交付的28纳米光刻机项目而言，建议重点关注那些致力于实现国产化目标的企业与技术环节。具体来说： 1. **核心组件**：上海微电子负责整机集成、科益虹源提供光源系统、国望光学设计物镜模块、国科精密开发曝光光学部分以及华卓精科和启尔机电分别承担双工作台及浸没系统的研发。 2. **配套设备与材料**：光刻胶，气体，掩模版，缺陷检测仪等也是实现国产化进程中不可或缺的环节。