步进扫描光刻机的运动轨迹规划与误差控制

简介：
本研究聚焦于步进扫描光刻技术中运动轨迹的优化设计及误差校正策略，旨在提升微纳制造精度和效率。 本段落研究了一种步进扫描投影光刻机工作台的超精密轨迹规划算法及误差控制策略。通过对比分析三阶扫描运动与步进运动的轨迹规划异同点，提出了一套适用于三阶扫描运动的路径规划方法。针对该类系统中对精确性和严格同步性的高要求，本段落深入探讨了如何有效补偿和修正扫描过程中的各种误差问题。 基于算法实现过程中可能出现的距离计算偏差，结合内部整数积分策略的应用，提出了在加减速阶段以及稳定速度段内进行离散化处理时的误差控制方案。同时为了应对由切换时间圆整导致的位置偏移，在匀速运动区间引入了一种位置修正因子来补偿可能产生的定位误差。 这些技术手段共同构成了光刻机工作台扫描路径规划精度控制系统的核心组成部分，确保了整个系统的高精度运行表现。通过实例验证表明该算法不仅有效而且精确可靠，并成功地应用于100纳米级别的步进扫描投影曝光设备中。