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CG2H40010F的PDK文件

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简介:
CG2H40010F的PDK文件是专为集成电路设计定制的重要资源,包含了设计特定芯片所需的标准单元、IP模块及工艺规则,助力高效准确的设计流程。 CREE公司CG2H40010F功率管的PDK文件用于在ADS软件中进行功率管仿真。

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  • CG2H40010FPDK
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    CG2H40010F的PDK文件是专为集成电路设计定制的重要资源,包含了设计特定芯片所需的标准单元、IP模块及工艺规则,助力高效准确的设计流程。 CREE公司CG2H40010F功率管的PDK文件用于在ADS软件中进行功率管仿真。
  • PDK安装与CDL和GDS导入
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    本教程详细介绍了PDK(工艺设计套件)的安装流程,并讲解了如何在软件中导入CDL(电路描述语言)和GDS(掩模版图交换格式)文件,帮助用户掌握相关操作技巧。 在集成电路设计过程中,PDK(Process Design Kit)的安装以及CDL(Circuit Description Language)文件与GDS(Graphic Data System)文件的导入是至关重要的步骤。本段落将详细介绍这两项操作的具体流程。 一、PDK 安装 首先,在进行 PDK 的本地环境安装时,请确保先 source ICFBVirtuoso 环境,并确认 perl 语言解释器已经正确安装。随后,需在 Foundry 目录中的 smic 文件夹下创建名为 smic28 的新文件夹,将解压后的 SMIC 28nm PDK 文件放置于 foundry-smic-smic28 文件夹内。运行 SMIC_PDK_install 脚本,并根据提示完成安装。 在安装完成后,在 homeicd2 目录下创建 smic28 子文件夹并打开 Virtuoso 界面,添加所需的库如数字逻辑库等。使用命令行将所需库复制到 foundry-smic-smic28 文件夹中,并找到_oa 路径将其加入 cds.lib 文件。 二、CDL 和 GDS 文件的导入 在电路设计流程中,CDL 和 GDS 文件的作用不可忽视,前者是原理图文件格式,后者则是版图数据。通过 Virtuoso 的 File-Import 功能可以实现这两种文件类型的导入操作: 1. CDL 文件导入:使用 File-Import-Spice 进行 CDL 文件的导入,在输入界面填写必要信息后还需要完成输出栏目的设定和 Device map 栏的配置,其中 Device map 需要参考 CDL 和 CDF 文件。完成后点击 Add Above 使菜单进入可编辑模式并提交更改。 2. GDS 文件导入:通过 File-Import 功能进行操作,在导入过程中可能遇到警告信息但只要没有错误提示即可视为成功完成导入流程。 三、LVS(Layout vs Schematic)与 DRC(Design Rule Check)分析 在版图和原理图对齐后,可以执行 LVS 和 DRC 分析以检查电路设计的正确性。进行这些步骤前需要编辑 .cdsinit 文件来指定 Calibre 软件的位置,并重启 Virtuoso 以便使用。 总之,PDK 安装与 CDL、GDS 文件导入是确保后续电路设计顺利开展的基础工作,必须严格按照指示操作以保证结果的准确性。
  • TSMC 13RF PDK
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    TSMC 13RF PDK是台积公司提供的射频设计套件,专为130纳米RFCMOS工艺打造,旨在简化和加速无线通信及其他高频应用的设计流程。 台积电0.13um PDK工艺库包含安装方法的说明文档。
  • SMIC 18 EEPROM PDK
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    简介:SMIC 18 EEPROM PDK是中芯国际推出的用于180纳米工艺嵌入式EPROM设计的专用开发套件,旨在简化和加速集成电路的设计流程。 SMIC.18eepromPDK
  • PDK添加教程(ADS)
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    本教程详细介绍了在ADS软件中如何加载和使用PDK(工艺设计套件),涵盖步骤说明及常见问题解答,适合电子设计工程师学习参考。 ADS添加PDK教程可以帮助新手将PDK文件导入ADS,方便引入新工艺。
  • 台积电0.18微米PDK
    优质
    台积电0.18微米PDK是针对半导体设计工程师提供的工艺设计工具包,包含开发低功耗和高性能芯片所需的设计规则与参数,支持高效能集成电路的产品实现。 TSMC 0.18um PDK MMIC设计
  • 台积电18RF工艺PDK
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    台积电18RF工艺PDK是专为射频(RF)应用设计的一站式解决方案,旨在提供先进的半导体制造技术,支持高性能无线通信设备的研发与生产。 相关的安装方法可以参考我的博客文章。
  • Virtuoso, Calibre, CMOS RF工艺PDK
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    本资源包包含针对Virtuoso平台设计的Calibre验证工具以及适用于CMOS RF工艺的PDK,为集成电路的设计与优化提供全面支持。 本模拟IC设计软件平台基于vmware虚拟机环境构建,该虚拟机配备Linux操作系统、Cadence IC5141仿真设计软件以及Calibre版图验证工具,并集成了CMOS RF工艺PDK。在下载过程中可能会遇到CRC校验错误的问题,因此压缩文件包中包含了恢复记录功能。如果出现此类问题,请使用WinRAR的修复压缩文件选项尝试进行修复后再解压。请注意将压缩包解压至一个剩余磁盘空间大于40GB的分区中。
  • SMIC 18纳米标准单元库PDK
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    简介:SMIC 18纳米标准单元库PDK是中芯国际推出的针对18nm工艺节点优化设计的一套物理设计工具包,为芯片开发者提供了丰富的IP模块和精确的仿真模型。 SMIC 18工艺的standard cell库PDK。
  • ADS采用台积电0.13um CMOS PDK工艺包
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    本项目基于台积电0.13微米CMOS工艺设计流程(PDK),进行高性能、低功耗模拟与数字集成电路的设计,旨在优化集成芯片性能。 该工艺包包含ADS使用的PDK文件,采用的是台积电TSMC的0.13um CMOS工艺,旨在为射频集成电路设计人员提供EDA辅助设计支持。