LEF提取流程说明在IC后端设计中的应用

简介：
本文介绍了LEF文件提取流程在集成电路后端设计中的具体应用方法和作用，旨在提升芯片设计效率与质量。 ### LEF文件提取流程详解——IC后端设计关键步骤 #### 概述 在集成电路（IC）设计领域，特别是后端设计过程中，LEF（Library Exchange Format）文件扮演着极其重要的角色。它不仅包含了器件的基本信息，还涉及到了布局布线的关键数据。本段落将详细介绍通过Abstract Generator提取LEF文件的具体流程，包括Pin Step、Extract Step和Abstract Step三个核心步骤，旨在帮助读者深入理解LEF文件的提取机制及其在IC设计中的应用。 #### Pin Step：引脚信息的确定 Pin Step是提取过程的第一步，其主要任务是将标签映射到相应的引脚，并创建布局布线的边界。这一阶段需要关注四个主要选项卡： 1. **The Map Tab**：负责将特定的标签映射到对应的引脚。 2. **The Text Tab**：虽然通常可以采用默认设置，但在某些情况下可能需要调整以满足特殊需求。 3. **The Boundary Tab**：此选项卡用于定义布局的边界。需要注意的是，版图每边最外边界的图层都必须包含在Using geometry on Layers中定义。 4. **The Blocks Tab**：同样，这块也可以采用默认设置，除非有特殊需求。 注意事项：在设置The Boundary时，PR边界是一个较为抽象的矩形边界，仅基于最外围的图层定义。为了更好地模拟实际版图形状，在Abstract Step中的overlap选项中进行进一步设定是必要的。 #### Extract Step：网络信息提取与数据建模 Extract Step的主要任务是提取终端引脚相连线网的信息，并为后续的数据建模做好准备。这一阶段包括以下几个重要步骤： 1. **The Signal Tab**：主要用于控制需要提取的信号图层信息，在Pin step中只能提取特定标签相关的图层信息，若需更多相关信息，则选择Extract signals nets选项并定义相关图层。 2. **The Power Tab**：用于定义电源地网格图层的信息。参数设定与The Signal Tab相似。 3. **The Antenna Tab**：主要用于定义天线效应相关的信息提取。 4. **The General Tab**：用于定义不同图层之间的连接关系，例如通过语法(METAL1 METAL2 V12)来定义垂直连接。 #### Abstract Step：高级配置与细节优化 Abstract Step涉及对LEF文件进行更高级别的配置和细节优化。这一阶段有两个关键选项卡： 1. **The Blockage Tab**：此选项允许用户控制如何处理布局中的障碍物，包括三种不同的设置： - Cover：在希望改善性能的同时避免使用版图中剩余的布线通道时选择Cover。 - Detailed：确保LEF视图能够完全反映所有细节信息，在Encounter中意味着利用剩余的布线通道。 - Shrink：自动填充较小间隙，只保留较大块的信息。具体控制由Shrink Dist和Shrink Tracks决定。 2. **The Overlap Tab**：用于定义LEF文件中的LAYER OVERLAP信息。若定制版图不规则，则需按实际情况提取形状以准确反映布局布线情况。 #### 结论 通过上述三个步骤的详细解析，可以看出LEF文件的提取过程既复杂又细致，涉及多方面考虑和调整。正确执行这三个步骤不仅可以提高IC设计的整体质量，还能显著提升布局布线效率。对于从事IC设计的专业人员而言，掌握这些关键步骤至关重要。