光刻缺陷及其影响
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简介：
《光刻缺陷及其影响》一文深入探讨了半导体制造中光刻工艺产生的各类缺陷，并分析其对最终产品性能的影响及相应的改进措施。
课程内容：
1. 光刻工艺的质量要求
1.1 图形完整、尺寸准确、边缘整齐且陡直。
1.2 图形内部不应有针孔。
1.3 图形外部不应出现小岛。
1.4 套合精确，无污染现象。
2. 光刻缺陷的影响及形成原因
2.1 光刻缺陷及其影响：
2.1.1 浮胶及其对工艺质量的影响。
2.1.2 毛刺、钻蚀以及它们对光刻效果的负面影响。
2.1.3 针孔的存在及其带来的问题。
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