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InAs基InAs/GaAsSb超晶格长波长红外探测器的ICP蚀刻研究

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简介:
本研究聚焦于InAs基InAs/GaAsSb超晶格材料在长波长红外探测器中的应用,着重探讨其ICP蚀刻工艺优化,以提升器件性能与制造良率。 本研究致力于InAs基InAsGaAsSb超晶格长波红外探测器干法蚀刻工艺的研究。这种基于II型超晶格(T2SL)的红外探测器因其高度均匀性、低隧道电流以及较低的Auger复合率,在长波检测中展现出极高的吸引力,适用于军事和民用领域的空间遥感、气象监测及资源勘探等广泛应用。 本研究通过在氯化物氮气(N2)等离子体环境下对InAs和GaSb材料进行感应耦合等离子体(ICP)蚀刻参数的研究,成功开发了适合于InAs基超晶格材料的ICP蚀刻技术。实验表明,优化后的蚀刻条件能够显著提升探测器性能。 在80K温度下测试时,该检测器展示了12微米截止波长和1.5AW响应率的良好表现;同时,在-200mV偏置电压下的暗电流密度为5.5x10^-4Acm²,R0A值达到15Ωcm²。这些结果表明InAs基超晶格LWIR探测器具有巨大的发展潜力。 研究内容包括高质量的InAs基材料超晶格制备、蚀刻参数对体材的影响以及适用于该类材料的ICP蚀刻技术的研发。长波红外探测器的应用前景广阔,因此对其性能改进的研究至关重要。 感应耦合等离子体(ICP)蚀刻是一种利用无线电频率驱动高密度等离子体进行表面精确加工的技术,被证明适用于InAs和GaSb体系中的精细制造过程。通过调控气体流量、射频功率及气压等参数,可以实现对蚀刻速率与方向的有效控制。 本研究中提到的InAsGaAsSb超晶格是一种由交替层状结构组成的新型人工晶体材料,在红外探测器作为吸收区使用时可显著提高器件性能。这种设计能够优化载流子传输并减少复合现象的发生,从而提升整体设备效能。 长波红外探测器的工作机制基于半导体中的光电效应原理:当入射的长波光子被吸收层捕捉后产生电子-空穴对,并在电场作用下形成电流信号;该信号强度直接反映了接收到的辐射量。鉴于InAsGaSb T2SL器件在长波段内的出色性能及其广泛应用前景,它一直是国际研究领域的热点。 综上所述,通过优化ICP蚀刻条件本研究所制备出高性能InAs基超晶格LWIR探测器为同类材料加工技术的进步提供了新思路,并为进一步开发基于该类材料的高效红外检测设备奠定了坚实基础。

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  • InAsInAs/GaAsSbICP
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    本研究聚焦于InAs基InAs/GaAsSb超晶格材料在长波长红外探测器中的应用,着重探讨其ICP蚀刻工艺优化,以提升器件性能与制造良率。 本研究致力于InAs基InAsGaAsSb超晶格长波红外探测器干法蚀刻工艺的研究。这种基于II型超晶格(T2SL)的红外探测器因其高度均匀性、低隧道电流以及较低的Auger复合率,在长波检测中展现出极高的吸引力,适用于军事和民用领域的空间遥感、气象监测及资源勘探等广泛应用。 本研究通过在氯化物氮气(N2)等离子体环境下对InAs和GaSb材料进行感应耦合等离子体(ICP)蚀刻参数的研究,成功开发了适合于InAs基超晶格材料的ICP蚀刻技术。实验表明,优化后的蚀刻条件能够显著提升探测器性能。 在80K温度下测试时,该检测器展示了12微米截止波长和1.5AW响应率的良好表现;同时,在-200mV偏置电压下的暗电流密度为5.5x10^-4Acm²,R0A值达到15Ωcm²。这些结果表明InAs基超晶格LWIR探测器具有巨大的发展潜力。 研究内容包括高质量的InAs基材料超晶格制备、蚀刻参数对体材的影响以及适用于该类材料的ICP蚀刻技术的研发。长波红外探测器的应用前景广阔,因此对其性能改进的研究至关重要。 感应耦合等离子体(ICP)蚀刻是一种利用无线电频率驱动高密度等离子体进行表面精确加工的技术,被证明适用于InAs和GaSb体系中的精细制造过程。通过调控气体流量、射频功率及气压等参数,可以实现对蚀刻速率与方向的有效控制。 本研究中提到的InAsGaAsSb超晶格是一种由交替层状结构组成的新型人工晶体材料,在红外探测器作为吸收区使用时可显著提高器件性能。这种设计能够优化载流子传输并减少复合现象的发生,从而提升整体设备效能。 长波红外探测器的工作机制基于半导体中的光电效应原理:当入射的长波光子被吸收层捕捉后产生电子-空穴对,并在电场作用下形成电流信号;该信号强度直接反映了接收到的辐射量。鉴于InAsGaSb T2SL器件在长波段内的出色性能及其广泛应用前景,它一直是国际研究领域的热点。 综上所述,通过优化ICP蚀刻条件本研究所制备出高性能InAs基超晶格LWIR探测器为同类材料加工技术的进步提供了新思路,并为进一步开发基于该类材料的高效红外检测设备奠定了坚实基础。
  • 320×256像素InAs/GaSb II类双色焦平面
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    本研究介绍了一种基于InAs/GaSb II类超晶格材料,适用于320x256像素阵列的中波红外双色焦平面探测器。该探测器在高灵敏度及低功耗方面具有显著优势,适合多种应用需求。 报道了320×256元InAsGaSb II类超晶格红外双色焦平面阵列探测器的初步结果。该探测器采用PN-NP叠层双色外延结构,并且信号提取使用顺序读出方式。通过分子束外延技术在GaSb衬底上生长了超晶格材料,其中两个波段的红外吸收区分别采用了7 ML InAs/7 ML GaSb和10 ML InAs/10 ML GaSb周期结构设计。焦平面阵列像元之间的中心距为30微米。 在测试中,器件被冷却至77 K时,在双色波段的50%响应截止波长分别为4.2μm和5.5μm。N-on-P器件在此条件下表现出平均峰值探测率达到6.0×10^10 cmHz^(1/2)W^-1,盲元率为8.6%,而P-on-N器件则达到了2.3×10^9 cmHz^(1/2)W^-1的平均峰值探测率和9.8%的盲元率。此外,在进行红外焦平面偏压调节成像测试时,获得了清晰度较高的双波段图像结果。
  • InAs/GaSb二极管阳极硫化处理
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    本研究探讨了在InAs/GaSb超晶格中波红外二极管制造过程中,通过硫化处理改善阳极性能的方法和技术,旨在提升器件的整体效率和稳定性。 ### InAsGaSb超晶格中波红外二极管的阳极硫化分析 #### 1. InAsGaSb超晶格技术 InAsGaSb超晶格是通过分子束外延在GaSb衬底上生长形成的,具有独特的电子特性。这种结构特别适用于制造高灵敏度和快速响应时间的中波红外光电探测器。 #### 2. 红外光电探测器 红外光电探测器能够将红外辐射转换为电信号。这类器件广泛应用于军事与商业领域,例如夜视、温度监测及气体检测等。 #### 3. 阳极硫化技术 阳极硫化是指在特定电化学条件下使材料表面形成硫化物的过程。本研究中使用该技术改善InAsGaSb超晶格红外二极管的表面特性,减少漏电流,并提高器件稳定性和性能表现。 #### 4. 表面处理与钝化 半导体制造中的关键技术包括光刻、湿法刻蚀和金属接触溅射等步骤。这些工艺用于优化半导体材料表面状态,降低暗电流密度并提升整体器件质量。 #### 5. (NH4)2S溶液处理对比 (NH4)2S溶液处理是一种常用的表面修饰方法,在本研究中与阳极硫化技术进行了比较测试以评估各自的效果差异。 #### 6. 零偏电阻 零偏压下的二极管电阻值代表了器件的稳定性。研究表明,经过阳极硫化的红外探测器在测量时其零偏阻抗可以达到10^6欧姆以上。 #### 7. 背景掺杂浓度 背景掺杂是指非故意添加到材料中的杂质水平,在研究中这一数值为4~5×10^14 cm^-3,对器件性能有重要影响。 #### 8. 电容-电压关系 通过测量二极管在不同偏压下的电容量变化来分析其特性。该方法可以提供关于载流子浓度、类型和缺陷密度等关键信息,在本研究中用于评估表面状态的改善情况。 #### 9. 制造工艺流程 制造过程中包括超晶格结构生长、器件制作、阳极硫化钝化处理以及最终性能测试等多个环节,确保红外二极管达到预期的技术指标。 #### 10. 性能测试 通过测量漏电流密度、零偏电阻值和暗电流等参数来评估设备的效能。这些结果能够证实阳极硫化技术的有效性,并为未来高性能器件的研发提供指导依据。 #### 结论 研究表明,InAsGaSb超晶格中波红外二极管采用阳极硫化处理后,在减少表面漏电、提升零偏电阻和改善C-V特性方面具有显著优势。这表明该方法对于提高此类探测器性能至关重要,并为未来相关研究提供了宝贵的参考价值。
  • GaAs/AlGaAs
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    GaAs/AlGaAs长波红外检测器是一种利用镓砷和铝镓砷材料制作的高性能红外探测器件,适用于长波红外光谱范围内的高灵敏度检测。 贝尔实验室的B. F. Levine等人开发了一种使用GaAAlGaAs材料制作的长波红外探测器,在77 K温度下测量时其响应率为30 kV/W,探测率D*为1.0×10^10 cm Hz^(1/2)W。该探测器的工作带宽超过70 MHz。理论上这种无电容的渡越时间器件可以达到高达10 GHz的工作频率。
  • 具备过100%部量子效率双色NiBiN II型光电
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    本研究开发了一种具有突破性的双色NiBiN II型超晶格结构的红外光电探测器,实现了超过100%的外部量子效率,显著提升了器件性能和应用潜力。 根据提供的文件内容可以总结以下知识点: 1. 二色niBin II型超晶格红外光电探测器的研究背景与意义:在红外探测领域中,具有特定结构的超晶格材料越来越受到关注。特别是类型II InAsGaSb超晶格(SL)材料因其独特的带隙排列,在抑制俄歇复合速率、延长载流子寿命(约0.1微秒)、减少隧穿暗电流和调节探测波长方面表现出色,从而能够覆盖从大约1到30微米的宽广探测范围。 2. 红外光电探测器的工作原理:这类探测器可以通过改变偏置极性实现双色检测。它们能在室温下操作,并且在不同的偏压条件下具有不同截止波长。例如,在峰值响应时,量子效率(QE)达到114%,这是由于其独特的光电导工作机制所致。 3. 探测器的光电转换机制:红外探测器中的核心是光电导效应,它允许设备在接受光照射下产生显著电流增益,这可能超过传统量子效率限制下的单位光子生成一个电子-空穴对的比例,从而实现外部量子效率大于100%。 4. 温度变化影响探测性能:当温度从90K上升至300K时,超晶格吸收层的导电性由电子型变为孔型。这导致设备从光伏模式转变为光电导模式,并因此在不同温度下表现出不同的响应特性与效能。 5. 探测器的应用领域:双色或多色检测技术对于复杂背景下的目标定位具有显著优势,在中波(MW)、长波(LW)和甚长波(VLW)范围内尤其突出。这些技术被广泛应用于军事、民用及科研用途,如二氧化碳的监测等。 6. 超晶格材料与结构的研究进展:先前报道基于类型II InAsGaSb SL双色探测器通常采用背靠背设计(例如pinip或nipin)。后来研究发现nBn结构可以减少暗电流,从而提高性能。 7. 量子效率的提升:通过特定的设计和工作机制,超晶格红外光电探测器实现了在峰值响应时外部量子效率超过100%的现象。这一突破超越了传统意义上每个入射光子仅生成一个电荷载流子的数量限制,并为该领域带来了新的技术与理论挑战。 8. 文献信息:这篇研究论文由Jianliang Huang等人撰写,发表于2017年IEEE Electron Device Letters期刊上(VOL.38, NO.9, SEPTEMBER 2017)。文章摘要部分详细介绍了所探讨的双色niBin II型InAsGaSb超晶格红外光电探测器。 综上所述,二色niBin II型超晶格红外光电探测技术代表了当今红外检测领域的前沿研究方向之一。通过持续的技术革新和材料创新,研究人员不断提升此类设备的功能表现,并进一步拓展其在各种应用场景中的潜力。
  • 构透镜偏振复用聚焦FDTD仿真:重现2018年《Optical Letters》
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    本研究基于2018年《Optical Letters》的工作,采用FDTD方法进行仿真分析,探讨了长波红外超构透镜的偏振复用聚焦特性。 长波红外超构透镜偏振复用聚焦FDTD仿真 本段落基于2018年《Optical Letters》发表的论文“High-efficiency, linear-polarization-multiplexing metalens for long-wavelength infrared light”,介绍了一种由二氧化钛椭圆纳米柱构成的单元结构,该结构具有各向异性特点。通过调整椭圆柱的长轴和短轴,可以独立调控xy偏振相位,并构建不同偏振下具有不同聚焦相位分布的超构透镜模型,从而实现10.6μm线偏振复用下的聚焦与成像功能。 案例内容主要包括: - 硅纳米柱在10.6μm长波红外中的单元结构仿真。 - 不同偏振传输相位参数扫描计算。 - 超构透镜的偏振复用聚焦相位计算代码。 - 偏振复用超构透镜中相位与结构尺寸匹配的计算代码,以及对应的远场电场分布计算。 案例包含: - FDTD模型 - FDTD建模脚本 - MATLAB计算相位代码及仿真结果复现 - 一份Word教程 偏振复用型超构透镜的相位计算代码和结构尺寸匹配代码具有广泛的适用性,可用于任意波段的超构透镜设计,并具备良好的可拓展性。
  • 于ZEMAX消热差系统设计
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    本研究运用光学设计软件ZEMAX,针对长波红外成像系统进行优化设计,旨在降低或消除环境温度变化引起的焦点偏移问题,提升系统的稳定性和性能。 通常情况下,红外光学系统工作在常温常压环境中,并且很少考虑温度变化对成像质量的影响。然而,在特殊用途的红外光学系统中,环境温度可能会有显著的变化。当温度发生变化时,由于不同材料(如光学材料和结构材料)之间的热不稳定性,会导致光学元件的曲率、厚度以及间隔发生改变;同时这些材料的折射率也会随之变化。这将导致整个系统的焦距发生变化,并且像面位置移动,从而使得系统性能大幅下降并影响成像质量。 因此,在设计这类特殊用途红外光学系统时需要进行消热差处理来解决上述问题。本段落使用了ZEMAX软件开发了一个包含四个球形镜片的长波红外折射型消热差系统,并且在-40℃至60℃温度范围内测试,弥散斑均方根半径始终保持小于像元大小的标准值;并且该系统的成像质量接近衍射极限的要求。
  • 激光烧工艺实时监控技术
    优质
    本研究聚焦于激光烧蚀刻蚀工艺中的实时监控技术,探讨其在材料加工领域的应用价值及技术创新,旨在提高加工精度和效率。 本段落提出了一种简单而有效的激光烧蚀监测方法,并展示了利用等离子体发光强度-时间曲线来实时监控激光刻蚀过程的良好前景。
  • 大_MATLAB_大模拟
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    本研究采用MATLAB软件进行晶粒长大的数值模拟,旨在探索不同条件下材料微观结构演变规律,为新材料开发提供理论依据。 适用于MATLAB平台的源程序,用于模拟晶粒长大。