《模拟集成电路版图》中的“二输入的与非门”部分详细介绍了设计和优化这种基本逻辑门的方法，包括布局技巧、器件尺寸选择以及如何确保信号完整性。适合电子工程学生及专业人士阅读。
在本资源中，我们将学习如何使用 Virtuoso 软件设计二输入与非门的模拟集成电路版图。该过程包括工艺库建立、设计库创建、电路原理图绘制、Schematic 和 Symbol 设计以及版图绘制等多个环节。
一、工艺库的建立
为了开始设计二输入与非门，首先需要在 Virtuoso 软件中建立一个工艺库。点击 File→New→Library 来新建一个工艺库，在随后出现的新建窗口里选择 Compile a new techfile 并命名该工艺库为 class1 后点击 OK。
二、设计库的创建
完成工艺库后，需要在 Virtuoso 软件中建立一个新的设计库。通过 Tool→Library Manager→class1→File→New→cell view 来新建一个设计库，并设置 cell name 为 nand 并选择 Composer-Schematic 设计工具。
三、二输入与非门电路原理图绘制
在创建完设计库之后，可以开始绘制二输入与非门的电路原理图。进入 Schematic 界面后找到 pmos、nmos、vdd 和 vss 组件，并设置相关参数和连接组件，最后保存该电路。
四、Schematic 及 Symbol 的设计
完成电路原理图后，需要创建 Schematic 及 Symbol。通过点击 Design→Creat CellView→From CellView 来生成一个 Symbol 并保存下来。
五、版图绘制
在完成了电路原理图和 Schematic 和 Symbol 设计之后，可以开始进行版图的绘制工作。设置鼠标移动距离，并依次完成 N-WELL 层、PMOS 的有源区、active 层、NMOS 的 active 层、多晶硅层、接触孔以及金属层等层次的设计。
通过学习本资源，读者能够掌握模拟集成电路版图设计的基本技能并将其应用于实际项目中。
5星
