
CMOS集成电路的布局规划。
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简介:
在集成电路的制造过程中,利用光刻和刻蚀技术,将掩膜版上的图案精确地转移至硅片表面。这种工艺所采用的掩膜版所包含的几何图形,被定义为集成电路的版图。该版图必须与所对应的电路实现方案进行严格的匹配,并且需要具备完全一致的器件、端口以及线路连接。
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简介:
在集成电路的制造过程中,利用光刻和刻蚀技术,将掩膜版上的图案精确地转移至硅片表面。这种工艺所采用的掩膜版所包含的几何图形,被定义为集成电路的版图。该版图必须与所对应的电路实现方案进行严格的匹配,并且需要具备完全一致的器件、端口以及线路连接。


