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Silvaco 2015版

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简介：
Silvaco 2015版是一款集成化EDA工具软件，提供了先进的半导体设计和分析解决方案，广泛应用于IC产业的研发与生产。 Silvaco 2015版本解压后按照安装步骤进行安装，在Windows 10操作系统上通常不会出现问题，但在Windows 11系统中可能会遇到兼容性问题，需要调整驱动程序以解决这些问题。

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  • Silvaco 2015版
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    Silvaco 2015版是一款集成化EDA工具软件，提供了先进的半导体设计和分析解决方案，广泛应用于IC产业的研发与生产。 Silvaco 2015版本解压后按照安装步骤进行安装，在Windows 10操作系统上通常不会出现问题，但在Windows 11系统中可能会遇到兼容性问题，需要调整驱动程序以解决这些问题。
     
  • Silvaco Example.zip
    优质
    Silvaco Example.zip 是一个包含Silvaco软件使用示例和教程的压缩文件，适用于电子设计自动化（EDA）领域内的用户参考学习。 Silvaco TCAD 是一个很好的例子，涵盖了常用的各种模型，并提供了详细的注释和用法指导。内容图文并茂，便于理解和学习。
     
  • Silvaco TCAD_example1
    优质
    Silvaco TCAD_example1演示了使用Silvaco的TCAD工具进行半导体器件模拟的基础方法，包括设置工艺条件和分析结果。 Silvaco TCAD 仿真例子教程1提供了详细的步骤来帮助用户了解如何使用 Silvaco TCAD 进行半导体器件的模拟。这个教程涵盖了从基本设置到高级应用的各种方面，旨在为初学者提供一个全面的学习资源，并且也为经验丰富的用户提供了一些新的技巧和方法。通过实践这些示例，读者可以更好地掌握Silvaco TCAD软件的各项功能及其在实际工程中的应用价值。
     
  • Silvaco TCAD
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    Silvaco TCAD是一款用于半导体器件和工艺开发的高级仿真软件工具，它为工程师提供了精确模拟的关键能力，助力创新设计与研究。 ### TCAD Silvaco 工艺与器件仿真实务 #### 概述 TCAD (Technology Computer-Aided Design) 是一种计算机辅助设计技术，在半导体行业中的微电子器件建模与仿真中应用广泛。Silvaco是一家知名的半导体软件提供商，其产品线涵盖了从工艺到电路设计的全过程解决方案。本段落主要介绍Silvaco公司的TCAD工具ATHENA和ATLAS在工艺与器件仿真中的使用方法。 #### 使用ATHENA进行NMOS工艺仿真 ##### 4.1.1 概述 ATHENA是Silvaco公司提供的一款强大的工艺仿真软件，用于模拟集成电路制造过程中的物理现象。本节将详细介绍如何使用ATHENA创建一个典型的MOSFET输入文件，并涵盖以下基本操作： 1. **创建好的仿真网格**：这是确保仿真实验准确性的重要步骤之一，在离子注入或PN结形成等需要高精度的区域尤其重要。 2. **演示淀积操作**：沉积是制造过程中的一项关键步骤，用于在半导体表面沉积薄膜材料。 3. **演示几何刻蚀操作**：通过移除不必要的材料来形成所需的结构形状。 4. **氧化、扩散、退火以及离子注入**：这些是制造过程中的常见热处理工艺步骤。 5. **进行必要的结构修改和调整** 6. **保存和加载仿真结果** ##### 4.1.2 创建一个初始结构 **1. 定义初始直角网格** - 启动ATHENA: 在命令行中输入`deckbuild-an&`，在交互模式下调用ATHENA。随后会显示deckbuild主窗口。 - 清空文本编辑器：通过点击File目录下的Empty Document来清空当前的文档内容。 - 设置初始环境：在文本编辑器里键入`goAthena`以初始化ATHENA环境。 **2. 在0.6μm×0.8μm方形区域内创建非均匀网格** - 定义X方向上的网格: 选择MeshDefine菜单项，设置Direction为X，Location为0，Spacing为0.1。插入注释“Non-UniformGrid(0.6umx0.8um)”。 - 插入第二和第三条X方向的网格线分别为0.2和0.6，并且这两处的间距均为0.01。 **3. 定义Y方向上的网格** - 设置Direction为Y，Location为0，Spacing为0.008。插入注释“Non-UniformGrid(0.6umx0.8um)”。 - 插入第二、第三和第四条Y方向的网格线分别为0.2、0.5和0.8，并且这些位置的间距分别为0.01、0.05和0.15。 **4. 预览并保存网格** 使用View键预览所创建的非均匀网格，确认符合预期。然后通过WRITE命令将相关定义信息写入文本窗口中以备后续操作。 **4. 定义初始衬底参数** 完成上述步骤后，需要初始化硅材料的相关属性： - 选择硅作为基础材料，并设定其晶向为<100>。 - 背景杂质选用硼元素，浓度设置为1.0×10^14原子数每立方厘米。 - 设置仿真维度为二维模式。 **5. 运行ATHENA并绘图** 运行ATHENA以获取初始结构。然后使用TONYPLOT工具来可视化结果，在Plot和Display...选项中可以查看到生成的图形信息。 #### 总结 通过本章节的学习，读者能够掌握如何利用ATHENA软件进行NMOS工艺仿真的基本步骤。从网格创建、定义衬底参数到最后运行仿真并绘图的过程，为深入了解半导体制造过程中的仿真技术奠定了基础。
     
  • Silvaco用户手册（中文版）
    优质
    《Silvaco用户手册（中文版）》提供了详尽的操作指南和技术支持，帮助用户掌握Silvaco工具软件的各项功能，适用于半导体设计与研究领域。 《半导体工艺和器件仿真工具_Silvaco_TCAD_实用教程.pdf》是一本详细介绍如何使用Silvaco TCAD进行半导体工艺和器件仿真的书籍。它涵盖了从基础概念到高级应用的全面内容，并提供了大量实例来帮助读者理解和掌握TCAD软件的功能与操作技巧，非常适合从事相关领域研究和技术开发的专业人士阅读参考。
     
  • Silvaco TCAD (Windows版) 学习资料
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    本资料为学习Silvaco TCAD软件（适用于Windows系统）而设计，涵盖从基础操作到高级应用的各种教程与实例，旨在帮助用户快速掌握TCAD仿真技巧。 TCAD的详细学习资料；包括代码讲解和详实的例子。
     
  • Silvaco Atlas 用户手册（英文版）
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    《Silvaco Atlas用户手册》提供详尽指南，帮助读者掌握Atlas在半导体器件仿真中的应用技巧与操作方法。适合工程师和技术人员参考使用。 Silvaco Atlas 用户手册（英文版）提供详细的指导和支持，帮助用户掌握 Silvaco Atlas 软件的各项功能和技术细节。该手册涵盖了软件的安装、配置以及各种应用场景的操作指南，是使用 Silvaco Atlas 进行半导体设计和模拟的重要参考资料。
     
  • API SPEC 14A-2015 (2015版).pdf
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    《API SPEC 14A-2015》是美国石油学会制定的一份关于近海设施的设计与建造规范，为海上油气开发提供技术指导和安全标准。 API Specification 14A, Twelfth Edition, January 2015 Effective Date: January 15, 2016 Errata: July 2015
     
  • Silvaco Learning Note: 源码中的Silvaco学习笔记
    优质
    《Silvaco Learning Note》是一份通过分析源代码来深入理解Silvaco工具和技术的学习资料，旨在帮助用户掌握其软件背后的原理和细节。 Silvaco-LearningNote：Silvaco学习笔记。
     
  • Silvaco DevEdit 使用教程（带注释版）
    优质
    本教程详细介绍了如何使用Silvaco公司的DevEdit软件，并提供了丰富的注释帮助用户更好地理解和掌握其功能与操作技巧。 本段落主要集中在Example的说明以及mesh优化方面的使用介绍。非完全注释意味着有些代码或功能点并未详细解释。在示例部分，通过具体的例子来展示如何应用相关技术或方法，并解释其背后的原理和应用场景。对于mesh优化方面，则着重于讨论如何提高网格模型的数据效率、加载速度及渲染性能等关键问题，同时提供了相应的实现策略和技术细节说明。