
利用支持向量机与遗传算法进行光刻热点检测(2011年)
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简介:
本文提出了一种结合支持向量机和遗传算法的方法来提高光刻工艺中的热点检测效率与准确性。通过优化模型参数,该方法能够有效识别半导体制造过程中的关键缺陷区域,从而提升产品质量并降低生产成本。
本段落提出了一种结合支持向量机(SVM)及遗传算法(GA)的集成电路版图光刻热点检测方法。首先对版图样本进行离散余弦变换(DCT),以提取其频域特征,然后利用这些样本训练SVM分类器来实现光刻热点的检测。为了提高光刻热点检测的精度和效率,采用遗传算法(GA)选择频域特征,并同时优化SVM参数。实验结果表明,基于SVM及版图频域特征并结合遗传算法进行优化的方法能够有效提升版图光刻热点的检测精度。
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