
基于GaN/InAlGaN且具备双沟道层的高性能新型GaN基HEMT
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简介:
本研究提出了一种创新的GaN基高电子迁移率晶体管(HEMT),通过引入双沟道层结构于GaN/InAlGaN材料体系中,显著提升了器件性能。
本段落报道了具有两个沟道层的GaN/InAlGaN基高电子迁移率晶体管(HEMT)的潜在影响。通过二维和双载流子器件仿真技术,我们研究了该器件性能,并重点关注电势、电子浓度、击穿电压以及跨导(gm)。同时,我们将结果与传统的AlGaN/GaN HEMT结构进行了对比分析。我们的仿真结果显示,所提出的新型结构能够增加电子浓度、提高击穿电压和跨导值,并且有效减少泄漏电流。此外,在InAlGaN材料中优化铝的摩尔分数以进一步提升器件性能至最佳状态。
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