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基于GaN/InAlGaN且具备双沟道层的高性能新型GaN基HEMT

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简介:
本研究提出了一种创新的GaN基高电子迁移率晶体管(HEMT),通过引入双沟道层结构于GaN/InAlGaN材料体系中,显著提升了器件性能。 本段落报道了具有两个沟道层的GaN/InAlGaN基高电子迁移率晶体管(HEMT)的潜在影响。通过二维和双载流子器件仿真技术,我们研究了该器件性能,并重点关注电势、电子浓度、击穿电压以及跨导(gm)。同时,我们将结果与传统的AlGaN/GaN HEMT结构进行了对比分析。我们的仿真结果显示,所提出的新型结构能够增加电子浓度、提高击穿电压和跨导值,并且有效减少泄漏电流。此外,在InAlGaN材料中优化铝的摩尔分数以进一步提升器件性能至最佳状态。

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  • GaN/InAlGaNGaNHEMT
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    本研究提出了一种创新的GaN基高电子迁移率晶体管(HEMT),通过引入双沟道层结构于GaN/InAlGaN材料体系中,显著提升了器件性能。 本段落报道了具有两个沟道层的GaN/InAlGaN基高电子迁移率晶体管(HEMT)的潜在影响。通过二维和双载流子器件仿真技术,我们研究了该器件性能,并重点关注电势、电子浓度、击穿电压以及跨导(gm)。同时,我们将结果与传统的AlGaN/GaN HEMT结构进行了对比分析。我们的仿真结果显示,所提出的新型结构能够增加电子浓度、提高击穿电压和跨导值,并且有效减少泄漏电流。此外,在InAlGaN材料中优化铝的摩尔分数以进一步提升器件性能至最佳状态。
  • AlGaN/GaN HEMT-Silvaco代码
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    本项目为基于Silvaco软件开发的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)仿真模型与设计代码,适用于器件性能优化及研究。 关于AlGaN/GaN HEMT器件的Silvaco仿真代码的相关内容可以进行讨论和分享。如果有兴趣了解或探讨相关的技术细节、应用案例或者遇到的具体问题,欢迎交流。不过,请注意在提问时尽量提供具体的问题描述以及已尝试的方法,以便更有效地获得帮助。
  • AlGaN/GaN HEMT-Silvaco代码
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    这段简介可以描述为:“AlGaN/GaN HEMT-Silvaco 代码”是一个用于模拟和设计高性能AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的Silvaco工具集。该代码帮助科研人员优化器件性能,缩短研发周期。 关于AlGaN/GaN HEMT器件的Silvaco仿真代码的相关内容进行了讨论。
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  • GaN光效Micro-LED仿真模研究.docx
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