TG2U型号光刻机

简介：
TG2U是一款先进的光刻设备，专为高精度半导体制造设计，支持多种工艺技术节点，满足客户对高性能芯片生产的严格要求。 TG2U型光刻机是半导体制造领域中的关键设备，主要用于生产大规模集成电路、传感器、表面波元件、磁泡器件、微波组件以及CCD等高科技产品。这种精密的光刻设备在半导体制造流程中起着至关重要的作用，因为它能够将复杂的电路图案转移到硅片上，从而形成电子元器件的基础结构。 该光刻机的技术参数如下： 1. **掩模尺寸**：支持多种规格，包括100X100X2-3mm、75X75X2—3mm以及63X63X2—3mm（选购）。这些不同大小的模板可以根据具体应用需求进行选择。 2. **硅片尺寸**：适用于直径为35至75毫米的硅片，这种材料是制作集成电路的基础，并直接影响到单个芯片上的元件数量和整体集成度。 3. **光刻线条宽度**：可实现3-4微米的精细图案，最细可达2微米。该精度水平标志着先进的半导体制造技术能力。 4. **掩模与硅片相对位移范围**：在XY方向上±2.5毫米以及转角上的±6度调整范围内进行精确对准，确保了光刻过程中的图案一致性及准确性。 除此之外，TG2U型还具备以下特点： - 承片台综合移动范围为X、Y合成φ75mm。 - 使用GCQ200W超高压汞灯作为光源，在300至436纳米波长范围内提供稳定能量的曝光操作。 - 显微镜系统包括多种放大倍率，如10X目镜和6X、9X及15X物镜，总放大倍率为60X到240X之间，便于精确调整与观察。 - 在真空接触压力方面大于等于7公斤力，确保硅片在曝光过程中的紧密贴合度。 - 曝光时间可以精细调节至从0.1秒到99分钟不等的范围内。 综上所述，TG2U型光刻机是一款高精度、灵活性强且可靠的设备，在半导体制造尤其是制作复杂电路设计时表现尤为突出。通过其优化的技术参数和精密曝光系统，该机器能够帮助制造商实现微纳米级别的电路生产需求，并推动整个行业的技术进步和发展。