具有可调共轭距离的光刻投影物镜的设计

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简介：
本文探讨了一种新型光刻投影物镜设计，该设计允许调节共轭距离以优化不同条件下的成像质量与分辨率，推动微纳制造技术的进步。一种用于印刷电路板（PCB）的激光直接成像（LDI）光刻设备需要加工高密度互连(HDI)基板，该基板厚度变化范围为0.025至3毫米。为此设计了一种共轭距可变的光刻投影物镜。采用双远心光路结构，并通过压缩物方和像方远心度误差的方法来有效实现共轭距的变化达3毫米。此外，正负光焦度合理匹配有助于在变化范围内很好地校正波像差、畸变等像差，从而确保良好的成像质量。以具体的设计实例为例，证实了采用上述方法可以有效地获得一定范围内的可变共轭距的光刻投影物镜，并且保证实际设备所需的高精度成像效果。

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具有可调共轭距离的光刻投影物镜的设计

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本文探讨了一种新型光刻投影物镜设计，该设计允许调节共轭距离以优化不同条件下的成像质量与分辨率，推动微纳制造技术的进步。一种用于印刷电路板（PCB）的激光直接成像（LDI）光刻设备需要加工高密度互连(HDI)基板，该基板厚度变化范围为0.025至3毫米。为此设计了一种共轭距可变的光刻投影物镜。采用双远心光路结构，并通过压缩物方和像方远心度误差的方法来有效实现共轭距的变化达3毫米。此外，正负光焦度合理匹配有助于在变化范围内很好地校正波像差、畸变等像差，从而确保良好的成像质量。以具体的设计实例为例，证实了采用上述方法可以有效地获得一定范围内的可变共轭距的光刻投影物镜，并且保证实际设备所需的高精度成像效果。

极紫外投影光刻镜头设计

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《极紫外投影光刻镜头设计》一文聚焦于探讨先进的极紫外(EUV)技术在微电子制造中的应用，详细介绍了EUV投影光刻镜头的设计原理、技术挑战及解决方案。极紫外投影光刻技术利用14纳米波长的电磁辐射，在实现高分辨率的同时保持较大的焦深范围，有望成为制造超大规模集成电路下一代的关键光刻技术。该技术采用步进扫描方式，并使用全反射、无遮挡且缩小的环形视场投影系统。设计此类系统的初始结构具有挑战性但至关重要。文中介绍了一种近轴搜索方法来确定这种无遮挡投影系统的初始参数，包括像方远心、物方准远心、固定放大率以及Petzval条件和物像共轭关系等约束条件下，通过计算得出第一面反射镜、最后一面反射镜及光阑所在反射镜的曲率，并且明确了物距与像距。利用这种方法编写了搜索程序以获取初始结构。基于此方法设计出了两种不同配置的光学系统： - 第一种由四个反射镜组成，数值孔径为0.1，像方视场尺寸为26毫米×1毫米，畸变控制在10纳米以内，并且分辨率能达到优于每毫米6000个周期。 - 另一套则包含六个反射镜，在相同的视野条件下，提高了数值孔径至0.25，同时将畸变降低到3纳米以下，使得其分辨能力达到每毫米超过18,000个周期。

万能投影计算器 v2.3（投影距离计算工具）

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i线投影光刻系统的光学设计分析

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本研究探讨了i线投影光刻系统中的关键光学设计要素及其性能分析，旨在提升微纳制造工艺精度与效率。本段落叙述了一种具有同轴对准特性的光学投影物镜双远心结构及其均匀照明系统的原理，并探讨了光刻分辨率与数值孔径之间的关系以满足i线光刻所需的光学传递函数要求。设计出一种新的双远心投影物镜，该物镜的数值孔径为0.42、放大倍率为-15、像场尺寸为15 mm×15 mm（直径21.2 mm），共轭距L设定为602毫米。通过光学设计程序ZEMAX-XE对i线物镜进行了图像质量计算，结果显示在整个视场上波差为0.55，在空间频率715 pair lines/mm和使用365士3 nm的波长条件下，可以实现0.7μm光刻分辨率。照明均匀器由81个小方型透镜组成阵列。利用模拟计算软件OPENG对被照像平面上的光能分布进行了计算分析，结果表明实际系统的照明不均匀性为±2%。

松下投影机距离计算工具.zip

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短焦数字投影镜头的光学设计方案

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本研究探讨了短焦数字投影镜头的设计与优化，重点分析了光学系统布局、像差校正及成像质量提升策略，旨在开发高效能短焦投影解决方案。利用ZEMAX光学软件开发设计了一款适用于0.8英寸单片数字光处理投影机的短焦数字投影镜头。该镜头总长度为172.6毫米，全口径直径为70毫米，并采用反远距结构设计。整个系统由六组七片透镜组成，其中包括六片玻璃材质和一片塑料非球面透镜。其全视场达到80度角，相对孔径为1/2.1, 工作距离与焦距的比例（反远比）为3.17:1，并且投射比例达到了0.76:1。

极紫外光刻物镜的组合倍率梯度膜设计

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本研究聚焦于极紫外光刻技术中物镜的设计优化，特别探讨了通过创新的组合倍率与梯度膜技术来改善光学性能的方法。随着10纳米以下光刻技术的发展，极紫外（EUV）光刻物镜正朝着超高数值孔径（NA）和组合倍率设计的方向进化。这导致了入射角及范围的显著增加，传统的规整膜和横向梯度膜已经无法满足这类系统的反射率与成像质量需求。为解决这一问题，我们提出了一种横纵梯度膜结合的方法：利用横向梯度膜来提升反射率，并通过纵向梯度膜优化反射均匀性同时补偿由横向梯度膜引入的像差。我们将这种方法应用于一套数值孔径（NA）为0.50的组合倍率EUV光刻物镜的设计中，结果显示，在保持系统成像性能不变的前提下，每面反射镜平均反射率超过60%，且所有镜子的最大和最小反射值差异均低于3.5%。这表明该方法满足了光刻技术的要求，并验证了横纵梯度膜结合法的有效性。

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屏幕尺寸与投影距离计算器

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