关于深紫外和紫外薄膜材料的光学常数的研究

简介：
本研究探讨了深紫外及紫外波段薄膜材料的光学性质，旨在通过精确测量与计算获得其光学常数，为高性能光电子器件的设计提供理论支持。 为了进一步明确氟化薄膜材料在深紫外至紫外波段（DUV-UV）的光学常数，本段落研究了六种常用的大带隙氟化物薄膜材料，并分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上通过热舟蒸发法镀制了三种高折射率材料薄膜：LaF3、NdF3、GdF3以及三种低折射率材料薄膜：MgF2、AlF3、Na3AlF6。使用商用Lambda900光谱仪测量了这些薄膜在190～500 nm范围内的透射率曲线；通过包络法和迭代算法结合，研究了它们的折射率与消光系数，并利用柯西色散公式及指数色散公式对得到的数据进行最小二乘拟合。最后得到了六种材料在此波段内的折射率和消光系数的色散方程及其相应的色散曲线。实验结果与已发表文献中的MgF2和LaF3的结果一致，证明了本段落研究结论的可靠性。