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Calibre DRC和LVS验证总结（参考版）.pdf

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简介：
本PDF文档详细总结了Calibre DRC（设计规则检查）与LVS（版图 vs. 原理图）验证流程和技术要点，旨在帮助工程师提升集成电路设计质量。 CalibreDRC和LVS验证总结.pdf包含了对使用Calibre工具进行设计规则检查（DRC）和电路图与布局一致性验证（LVS）的详细分析和技术要点。文档中提供了相关技术背景、操作步骤以及常见问题解决方法，旨在帮助工程师更好地理解和应用这些关键的设计验证流程。

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  • Calibre DRC和LVS验证总结（参考版）.pdf
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    本PDF文档详细总结了Calibre DRC（设计规则检查）与LVS（版图 vs. 原理图）验证流程和技术要点，旨在帮助工程师提升集成电路设计质量。 CalibreDRC和LVS验证总结.pdf包含了对使用Calibre工具进行设计规则检查（DRC）和电路图与布局一致性验证（LVS）的详细分析和技术要点。文档中提供了相关技术背景、操作步骤以及常见问题解决方法，旨在帮助工程师更好地理解和应用这些关键的设计验证流程。
     
  • Calibre DRC与LVS验证总结资料
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    本资料深入探讨了Calibre工具在集成电路设计中的DRC（设计规则检查）和LVS（版图 versus schematics）验证应用，提供详细的案例分析和技术总结。 本段落介绍了Calibre这一后端物理验证工具的基本概念与特点。作为Mentor Graphics公司出品的工具，Calibre提供了最有效的DRC/LVS/ERC解决方案，并特别适合用于超大规模IC电路的物理验证。它支持平坦化和层次化的验证方式，从而大大缩短了验证过程的时间。此外，由于其高效可靠的性能已被各大晶圆厂认证，因此在Tape Out之前的验证阶段已经成为标准工具。本段落还提供了Calibre DRC和LVS验证总结材料，为读者提供更多学习资料。
     
  • Virtuoso与Calibre在版图绘制、DRC、LVS及XRC中的应用
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    本文章探讨了Virtuoso和Calibre工具在电路设计流程中的关键作用，包括版图创建、设计规则检查(DRC)、布局与电路一致性验证(LVS)，以及寄生参数提取(XRC)，为集成电路开发提供技术指导。 Virtuoso与calibre在画版图以及进行DRC、LVS和XRC方面的教程很不错，值得收藏。
     
  • 关于使用Dracula进行DRC和LVS验证的文档.docx
    优质
    本文档详细介绍如何利用Dracula工具执行设计规则检查(DRC)与版图-versus-符号验证(LVS)，确保电路设计符合制造规范及逻辑一致性。 ### 基于Dracula的DRC和LVS验证知识点详解 #### 一、DRC验证步骤 **准备工作：** 1. **环境设置与文件准备：** - 如果使用SOS进行账号管理系统，则需通过终端命令`SOS`打开管理界面，并将`cds.lib`文件签出至个人账户下，确保首次验证成功。 - 当`cds.lib`文件内添加了特定内容（例如`SOFTINCLUDE tmpiqDir0ArefWincds.lib`），即可开始后续操作。 2. **创建验证文件夹：** - 在个人账户下新建文件夹`DRC`，并在此文件夹下为每个项目创建一个子文件夹（例如`TEST`作为版图名称）。 3. **配置DRC验证文件：** - 将已有的DRC验证文件（例如`xxx.drc`）复制到项目文件夹（如`TEST`）中，并进行必要的参数修改： - `INDISK`应被设为项目GDS文件名（如`TEST.gds`）。 - `PRIMARY`字段设置为项目的顶层模块名（如`TEST`）。 - 将`KEEPDATA`字段设为`YES`，以便避免每次运行时询问是否删除多余文件。 4. **导入GDS文件：** - 将项目的GDS数据导入到项目目录下。具体步骤未详述，可参考相关文档获取指导。 5. **检查文件完整性：** - 确认项目目录下存在两个关键文件：DRC验证文件与GDS文件。 6. **启动DRC验证：** - 执行命令`PDRACULA`进入验证环境。 - 输入`g xxx.drc`指定DRC验证文件路径。 - 输入`f`启动验证过程。 - 若出现提示“THE END OF PROGRAM”则表示验证成功。 7. **运行DRC检查：** - 成功后执行`.jxrun.com`命令启动DRC验证。 - 如再次出现相同提示，则表明验证完成。 - 此时项目目录下将新增多个文件，这是正常现象。 - 打开版图并依次点击“Launch-Plugins-Dracula Interactive”选择“DRC LVS Short LPE”选项。 - 点击“DRC-Setup”，输入之前进行的DRC验证完整路径。此时会弹出三个窗口以供进一步检查与修正工作。 #### 二、LVS验证步骤 **准备工作同上。** 1. **创建LVS验证文件夹：** - 类似于DRC，创建名为`LVS`的文件夹，并在其中为每个项目建立一个子文件夹（如`TEST`）。 2. **配置LVS验证文件：** - 将LVS验证文件（例如`xxx.lvs`）复制到项目目录下，并进行与之前相同的参数修改。 3. **导入GDS文件：** - 重复DRC步骤中的操作，确保所有必需的GDS数据已正确放置于指定位置。 4. **导入电路网表：** - 将电路的CDL文件导入当前目录。 - 对导出的网表进行处理以删除`*.RESI=2000`项，避免电阻提取问题的发生。 5. **转换网表格式：** - 使用终端命令进入转换环境，并按照提示操作： ```shell LOGLVS htv cir TEST.cdl # 指定电路CDL文件路径 con TEST # 设置顶层模块名 x # 结束转换过程 ``` 6. **启动LVS验证：** - 执行命令`PDRACULA`进入验证环境。 - 输入`g xxx.drc`指定DRC验证文件路径。 - 输入`f`启动验证过程，若出现提示“THE END OF PROGRAM”则表示成功完成。 7. **运行DRC验证：** - 成功后执行`.jxrun.com`命令开始新一轮的验证程序。 - 若再次显示相同信息，则表明LVS检查已完成，并且项目目录下将新增多个文件，这是正常现象。 - 打开版图并依次点击“Launch-Plugins-Dracula Interactive”选择相应选项进行后续操作。 基于Dracula工具执行DRC和LVS验证的过程主要分为几个关键步骤：准备工作、配置相关文件、导入必要的数据以及运行最终的检查程序。通过详细解析这些步骤，可以帮助技术人员更好地理解和掌握这一流程。
     
  • Cadence两级放大电路版图，已通过LVS和DRC检查
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    该文档展示了一个经过验证的Cadence两级放大电路版图设计，已成功完成布局与布线(LVS)及设计规则检查(DRC)，确保了电路的高度可靠性和有效性。 Cadence 两级放大电路的版图已经通过了LVS和DRC检查。
     
  • Cadence 两级放大电路版图已完成，已通过LVS和DRC检查
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    本项目设计并完成了Cadence环境下的两级放大电路版图绘制，经验证已顺利通过LVS（Layout vs Schematic）及DRC（Design Rule Check）检测，确保了电路布局的准确性和合规性。 Cadence 两级放大电路的版图设计已经完成，并且通过了LVS（Layout vs. Schematic）和DRC（Design Rule Check）检查。这段话涉及的知识点包括电路设计以及集成电路设计工具的应用。 电路设计是指利用电子元件来构建特定功能的过程，而集成电路设计则是在单个芯片上集成多个电子元件以实现各种功能的技术。Cadence是常用的集成电路设计软件之一，它提供了一系列的工具和模块，如原理图绘制、版图布局及验证等。这些工具有助于工程师进行电路的设计与优化，并确保其性能达到预期标准。 集成电路设计作为现代电子技术的重要组成部分，通过使用像Cadence这样的专业工具可以极大地提高工作效率并保证产品的质量。
     
  • Calibre验证工具操作手册
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    《Calibre验证工具操作手册》是一份详尽的指南，旨在帮助用户掌握Calibre验证工具的各项功能和使用方法。手册涵盖了从基础设置到高级应用的所有内容，是进行IC设计验证不可或缺的参考文献。 本段落介绍了Calibre DRC/LVS的使用指南，主要针对单元库设计B组。文章首先简要介绍了Calibre验证工具的概念和作用，然后详细讲解了Calibre DRC的使用方法及注意事项，并提供了该工具的使用技巧指导，帮助读者更好地掌握其应用技能。
     
  • 反相器布局及DRC、LVS仿真分析1
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    本课程详细讲解了反相器电路的设计与布局方法，并通过DRC（设计规则检查）和LVS（版图与电路一致性验证）等技术，进行深入的仿真分析。适合电子工程专业的学生和技术人员学习。 本段落将介绍如何在集成电路设计过程中使用反相器的版图设计，并详细讲解进行设计规则检查（DRC）和电路与版图一致性验证（LVS）的具体步骤。 1. **进入版图编辑环境**： - 使用MobaXterm创建一个新的session，输入远程主机地址。 - 登录服务器后，建立VNC端口连接并启动相应的设计工具。具体操作是登录到服务器，并通过VNC客户端连接至该服务器的指定端口（例如10.20.20.46:n），然后使用密码进行验证。 - 在成功连接之后，在图形界面中打开 Virtuoso 软件，选择 Tools -> Library Manager 并创建一个新的库 Tuotorial-layout，并将其附加到现有的技术库。 2. **绘制反相器版图**： - 从tsmcN65库中添加pmos（pch）和nmos（nch）实例，保持适当的间距。 - 使用快捷键R在poly层上创建多晶硅区域，并确保边界对齐。 - 在M1层绘制矩形以连接至MOSFET的漏区，并引出输出端。 - 绘制输入和输出端口于mos源区附近，注意保持与电路图一致性的边界对齐。 - 添加接触点（via）并确保金属框正确放置，使输入信号能够通过多晶硅层到达MOSFET的栅极。 3. **衬底连接**： - 对pmos器件，在其衬底上连接到vdd电压，并保持与M1金属层对齐。 - 同样地，对于nmos器件，则将其衬底连接至gnd电位，确保也符合M1层的布局要求。 4. **DRC仿真**： - 使用Calibre软件运行设计规则检查（DRC），初次执行时选择取消并手动指定正确的规则文件路径。 - 定义输入输出参数后启动仿真过程以确认版图是否遵循所有工艺规范和标准，从而避免潜在制造问题。 5. **LVS仿真**： - 在进行电路与版图一致性验证（LVS）前，请确保拥有一个结构上完全匹配的原理图，并且更改mos为pch和nch标识符。 - 启动Calibre LVS工具并指定适当的规则文件路径，以保证检查结果准确无误。 - 设置输入输出参数后运行仿真程序来验证版图与电路设计的一致性。 DRC和LVS是集成电路开发流程中的关键步骤。它们不仅可以确保所有设计遵循工艺规范，还能发现潜在的制造问题，并且保证最终产品的功能正确性和可靠性。对于初学者而言，掌握这些操作至关重要，因为这是IC设计过程的重要组成部分。
     
  • LVS-Keepalived-Haproxy负载均衡池总结
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    本文章全面概述了LVS、Keepalived和HAProxy三者在构建高性能服务器负载均衡系统中的应用与配置方法，适用于需要部署高可用架构的技术人员。 由于您提供的博文链接指向的内容并未直接包含在问题描述中，我无法直接访问并理解需要改写的具体内容或上下文。请您提供具体的文字内容或者详细说明需要改写的信息，以便我能更准确地帮助重写文本而不改变原意，并且去除其中的联系方式和网址等信息。