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数字IC设计前后端流程.docx

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简介:
本文档《数字IC设计前后端流程》详细介绍了集成电路设计中从前端逻辑实现到后端物理实现的各项步骤与关键技术。适合希望全面了解数字IC设计过程的专业人士阅读。 本段落档主要介绍了数字IC设计的流程,涵盖了前端设计和后端设计的具体步骤。

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    本课程详细讲解数字电路后端设计的关键步骤和方法,涵盖布局规划、逻辑优化、物理实现及验证等环节,旨在培养具备独立完成IC设计能力的专业人才。 1. 数据准备 2. 布局规划 3. Placement - 自动放置标准单元 4. 时钟树生成 (CTS Clock tree synthesis) 5. STA 静态时序分析和后仿真
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  • LEF提取说明在IC中的应用
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    本文介绍了LEF文件提取流程在集成电路后端设计中的具体应用方法和作用,旨在提升芯片设计效率与质量。 ### LEF文件提取流程详解——IC后端设计关键步骤 #### 概述 在集成电路(IC)设计领域,特别是后端设计过程中,LEF(Library Exchange Format)文件扮演着极其重要的角色。它不仅包含了器件的基本信息,还涉及到了布局布线的关键数据。本段落将详细介绍通过Abstract Generator提取LEF文件的具体流程,包括Pin Step、Extract Step和Abstract Step三个核心步骤,旨在帮助读者深入理解LEF文件的提取机制及其在IC设计中的应用。 #### Pin Step:引脚信息的确定 Pin Step是提取过程的第一步,其主要任务是将标签映射到相应的引脚,并创建布局布线的边界。这一阶段需要关注四个主要选项卡: 1. **The Map Tab**:负责将特定的标签映射到对应的引脚。 2. **The Text Tab**:虽然通常可以采用默认设置,但在某些情况下可能需要调整以满足特殊需求。 3. **The Boundary Tab**:此选项卡用于定义布局的边界。需要注意的是,版图每边最外边界的图层都必须包含在Using geometry on Layers中定义。 4. **The Blocks Tab**:同样,这块也可以采用默认设置,除非有特殊需求。 注意事项:在设置The Boundary时,PR边界是一个较为抽象的矩形边界,仅基于最外围的图层定义。为了更好地模拟实际版图形状,在Abstract Step中的overlap选项中进行进一步设定是必要的。 #### Extract Step:网络信息提取与数据建模 Extract Step的主要任务是提取终端引脚相连线网的信息,并为后续的数据建模做好准备。这一阶段包括以下几个重要步骤: 1. **The Signal Tab**:主要用于控制需要提取的信号图层信息,在Pin step中只能提取特定标签相关的图层信息,若需更多相关信息,则选择Extract signals nets选项并定义相关图层。 2. **The Power Tab**:用于定义电源地网格图层的信息。参数设定与The Signal Tab相似。 3. **The Antenna Tab**:主要用于定义天线效应相关的信息提取。 4. **The General Tab**:用于定义不同图层之间的连接关系,例如通过语法(METAL1 METAL2 V12)来定义垂直连接。 #### Abstract Step:高级配置与细节优化 Abstract Step涉及对LEF文件进行更高级别的配置和细节优化。这一阶段有两个关键选项卡: 1. **The Blockage Tab**:此选项允许用户控制如何处理布局中的障碍物,包括三种不同的设置: - Cover:在希望改善性能的同时避免使用版图中剩余的布线通道时选择Cover。 - Detailed:确保LEF视图能够完全反映所有细节信息,在Encounter中意味着利用剩余的布线通道。 - Shrink:自动填充较小间隙,只保留较大块的信息。具体控制由Shrink Dist和Shrink Tracks决定。 2. **The Overlap Tab**:用于定义LEF文件中的LAYER OVERLAP信息。若定制版图不规则,则需按实际情况提取形状以准确反映布局布线情况。 #### 结论 通过上述三个步骤的详细解析,可以看出LEF文件的提取过程既复杂又细致,涉及多方面考虑和调整。正确执行这三个步骤不仅可以提高IC设计的整体质量,还能显著提升布局布线效率。对于从事IC设计的专业人员而言,掌握这些关键步骤至关重要。
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