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IC设计后端流程入门指南.pdf

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简介:
《IC设计后端流程入门指南》是一本为电子工程和计算机科学专业学生及初入行业的工程师编写的实用教程,详细介绍了集成电路设计中至关重要的后端流程,包括布局、布线等关键技术环节。适合零基础读者快速掌握相关知识技能。 本资源主要介绍了IC设计后端流程的基本内容,从Verilog代码到版图的整个过程进行了详细的讲解。 1. 逻辑综合:这是将高级语言(如Verilog或VHDL)编写的数字电路设计转换为网表的过程,在此过程中设计师需要选择合适的库和约束条件以确保设计正确性和性能。 2. 设计的形式验证:形式验证是检查设计功能是否正确的过程,主要在流程中的各个阶段进行代码一致性校验。这一方法可以减少后续错误并降低重新设计的可能性。 3. 静态时序分析(STA):这是ASIC设计中最关键的步骤之一,在布局布线前使用primetime对整个设计做静态时序分析以确保其时间性能正确性。 4. 自动布局布线(APR):自动布局布线是使用cadence公司的SOCencounter工具,将综合后的网表进行自动布局和连线的过程。 5. 延迟信息反标注:在完成自动布局布线之后,需要把延迟信息反馈到网表中以便进一步的静态时序分析工作。 6. 门级功能仿真:这是验证设计功能正确性的过程,并且可以通过使用适当的工具对设计进行模拟测试以确保其正常运行。 7. DRC和LVS:这两个步骤用于检查并保证设计的一致性和准确性,其中包括DRC(Design Rule Check)与LVS(Layout Versus Schematic)两个主要方面。 8. 抽取及lef文件生成:抽取是指将电路图转换为高级抽象的过程,并且可以利用这个过程产生的lef文件作为硬宏使用在其他项目中。 9. 模块调用:这是指如何通过抽取后的设计模块来构建更大规模的设计系统的方法和技巧。 10. ASIC设计:这一步骤涉及到如何把设计方案转化为可制造的芯片,包括添加PAD等必要的步骤以完成最终产品的制作过程。 本资源详细介绍了IC后端流程的关键知识点,涵盖了逻辑综合、形式验证、静态时序分析、自动布局布线、延时信息反标注、门级功能仿真、DRC和LVS检查以及抽取与lef文件生成等内容。

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    《IC设计后端流程入门指南》是一本为电子工程和计算机科学专业学生及初入行业的工程师编写的实用教程,详细介绍了集成电路设计中至关重要的后端流程,包括布局、布线等关键技术环节。适合零基础读者快速掌握相关知识技能。 本资源主要介绍了IC设计后端流程的基本内容,从Verilog代码到版图的整个过程进行了详细的讲解。 1. 逻辑综合:这是将高级语言(如Verilog或VHDL)编写的数字电路设计转换为网表的过程,在此过程中设计师需要选择合适的库和约束条件以确保设计正确性和性能。 2. 设计的形式验证:形式验证是检查设计功能是否正确的过程,主要在流程中的各个阶段进行代码一致性校验。这一方法可以减少后续错误并降低重新设计的可能性。 3. 静态时序分析(STA):这是ASIC设计中最关键的步骤之一,在布局布线前使用primetime对整个设计做静态时序分析以确保其时间性能正确性。 4. 自动布局布线(APR):自动布局布线是使用cadence公司的SOCencounter工具,将综合后的网表进行自动布局和连线的过程。 5. 延迟信息反标注:在完成自动布局布线之后,需要把延迟信息反馈到网表中以便进一步的静态时序分析工作。 6. 门级功能仿真:这是验证设计功能正确性的过程,并且可以通过使用适当的工具对设计进行模拟测试以确保其正常运行。 7. DRC和LVS:这两个步骤用于检查并保证设计的一致性和准确性,其中包括DRC(Design Rule Check)与LVS(Layout Versus Schematic)两个主要方面。 8. 抽取及lef文件生成:抽取是指将电路图转换为高级抽象的过程,并且可以利用这个过程产生的lef文件作为硬宏使用在其他项目中。 9. 模块调用:这是指如何通过抽取后的设计模块来构建更大规模的设计系统的方法和技巧。 10. ASIC设计:这一步骤涉及到如何把设计方案转化为可制造的芯片,包括添加PAD等必要的步骤以完成最终产品的制作过程。 本资源详细介绍了IC后端流程的关键知识点,涵盖了逻辑综合、形式验证、静态时序分析、自动布局布线、延时信息反标注、门级功能仿真、DRC和LVS检查以及抽取与lef文件生成等内容。
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    本文介绍了LEF文件提取流程在集成电路后端设计中的具体应用方法和作用,旨在提升芯片设计效率与质量。 ### LEF文件提取流程详解——IC后端设计关键步骤 #### 概述 在集成电路(IC)设计领域,特别是后端设计过程中,LEF(Library Exchange Format)文件扮演着极其重要的角色。它不仅包含了器件的基本信息,还涉及到了布局布线的关键数据。本段落将详细介绍通过Abstract Generator提取LEF文件的具体流程,包括Pin Step、Extract Step和Abstract Step三个核心步骤,旨在帮助读者深入理解LEF文件的提取机制及其在IC设计中的应用。 #### Pin Step:引脚信息的确定 Pin Step是提取过程的第一步,其主要任务是将标签映射到相应的引脚,并创建布局布线的边界。这一阶段需要关注四个主要选项卡: 1. **The Map Tab**:负责将特定的标签映射到对应的引脚。 2. **The Text Tab**:虽然通常可以采用默认设置,但在某些情况下可能需要调整以满足特殊需求。 3. **The Boundary Tab**:此选项卡用于定义布局的边界。需要注意的是,版图每边最外边界的图层都必须包含在Using geometry on Layers中定义。 4. **The Blocks Tab**:同样,这块也可以采用默认设置,除非有特殊需求。 注意事项:在设置The Boundary时,PR边界是一个较为抽象的矩形边界,仅基于最外围的图层定义。为了更好地模拟实际版图形状,在Abstract Step中的overlap选项中进行进一步设定是必要的。 #### Extract Step:网络信息提取与数据建模 Extract Step的主要任务是提取终端引脚相连线网的信息,并为后续的数据建模做好准备。这一阶段包括以下几个重要步骤: 1. **The Signal Tab**:主要用于控制需要提取的信号图层信息,在Pin step中只能提取特定标签相关的图层信息,若需更多相关信息,则选择Extract signals nets选项并定义相关图层。 2. **The Power Tab**:用于定义电源地网格图层的信息。参数设定与The Signal Tab相似。 3. **The Antenna Tab**:主要用于定义天线效应相关的信息提取。 4. **The General Tab**:用于定义不同图层之间的连接关系,例如通过语法(METAL1 METAL2 V12)来定义垂直连接。 #### Abstract Step:高级配置与细节优化 Abstract Step涉及对LEF文件进行更高级别的配置和细节优化。这一阶段有两个关键选项卡: 1. **The Blockage Tab**:此选项允许用户控制如何处理布局中的障碍物,包括三种不同的设置: - Cover:在希望改善性能的同时避免使用版图中剩余的布线通道时选择Cover。 - Detailed:确保LEF视图能够完全反映所有细节信息,在Encounter中意味着利用剩余的布线通道。 - Shrink:自动填充较小间隙,只保留较大块的信息。具体控制由Shrink Dist和Shrink Tracks决定。 2. **The Overlap Tab**:用于定义LEF文件中的LAYER OVERLAP信息。若定制版图不规则,则需按实际情况提取形状以准确反映布局布线情况。 #### 结论 通过上述三个步骤的详细解析,可以看出LEF文件的提取过程既复杂又细致,涉及多方面考虑和调整。正确执行这三个步骤不仅可以提高IC设计的整体质量,还能显著提升布局布线效率。对于从事IC设计的专业人员而言,掌握这些关键步骤至关重要。