关于介质/金属/介质透明导电多层膜的椭偏光谱分析

简介：
本研究探讨了介质-金属-介质结构透明导电多层膜的光学性质，通过椭偏光谱技术进行详细分析，以优化材料在光电设备中的应用性能。 拥有介质金属介质结构的透明导电多层膜在光学与电学性能上优于单层透明导电氧化物膜或金属膜，并且可以在低温条件下制备。通过磁控溅射技术，在室温下制备了ZnO-Ag-SiN透明导电多层膜，随后进行了变角度椭圆偏振光谱测量。首先对每种单层材料建立了物理模型并进行拟合，获得了各层的折射率和消光系数。然后利用这些单层膜的数据构建了一个适用于整个多层结构的模型，并调整参数以使该模型预测值与实验数据吻合。 研究结果显示，在不同O2和Ar流量比下制备ZnO衬底层时，功能层Ag中Drude理论计算出的载流子浓度几乎不变，但迁移率有所不同。当O2和Ar的比例使得ZnO处于氧化状态时，Ag层显示出最高的电子迁移率，并且X射线衍射分析表明，在这种条件下Ag层具有最强的结晶强度及择优取向。