
MOSFET的构造与基础工作原理
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简介:
本文章介绍金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)的基本结构和工作机理,帮助读者理解其在电子设备中的应用。
MOSFET是金属-氧化物-半导体场效应晶体管的英文缩写,具有平面型器件结构,并根据导电沟道的不同分为NMOS和PMOS两种类型。MOS器件的工作原理基于表面感应机制,通过垂直栅压VGS来控制水平电流IDS。它是一种多子(多数载流子)设备,其放大能力可以用跨导来描述。
典型的铝栅MOS器件的平面结构和剖面图如下所示:NMOS和PMOS在结构上是相同的,仅在于衬底以及源漏区域的掺杂类型不同。具体来说,NMOS是在P型硅基板中通过选择性掺杂形成N型区域作为其源漏区;而PMOS则是在N型硅基板中通过选择性掺杂形成P型区域作为其源漏区。
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