Advertisement

【详尽指南:集成电路-ESD基础全解-涵盖原理、器件、电路及工艺】

  •  5星
  •     浏览量: 0
  •     大小:None
  •      文件类型:DOCX


简介:
本指南全面解析集成电路中的ESD(静电放电)问题,深入探讨其原理、相关器件特性、防护电路设计以及制造工艺要点。 ### 集成电路ESD基础知识综合解析 #### 一、ESD简介及危害 静电放电(ESD:Electrostatic Discharge)是集成电路设计与制造领域中的一个重要概念,也是导致电子元器件或系统受到电气损伤的主要原因之一。由于静电放电时电压极高(通常超过几千伏特),这种损害通常是毁灭性的且不可逆的,可能会直接烧毁电路。因此,在IC的设计和生产中防止ESD造成的破坏至关重要。 #### 二、ESD防护机制 为了保护集成电路免受静电影响,设计者会在电路里加入专门的ESD保护元件。这些保护元件能在外部出现静电时起到自我防御的作用,类似于安装“避雷针”。其中,二极管是常用的ESD防护组件之一。 - **PN结击穿**:PN结的击穿可分为电击穿和热击穿两种类型。前者包括雪崩击穿(适用于低浓度材料)及齐纳击穿(适用于高浓度材料)。这两种方式都是由于载流子碰撞产生的新电子—空穴对导致,是可逆的过程。而后者则是不可逆的,因为它会导致硅因过热熔化。 - **限制电流**:为了确保电路的安全性,在保护二极管上通常串联一个高阻抗电阻来控制通过保护元件的最大电流值,避免由于高温引起的损坏。 #### 三、ESD布局与位置 在设计中,用于防止静电的保护电路一般放置于芯片输入端的Pad附近而不是内部。这是因为外部的静电需要尽快被释放掉;如果放在内部可能会导致延迟。此外还可以设置多级防护以提供更高级别的保护措施。 #### 四、ESD测试标准 根据产生方式及其对电路的影响,ESD测试通常分为以下几种类型: 1. **人体放电模式(HBM: Human-Body Model)**:该模型模拟了由于人与物体摩擦产生的静电释放到芯片上的情况。这种现象在日常生活中较为常见。工业界一般采用MIL-STD-883C method 7506标准进行测试,其中规定等效人体电容为100pF,电阻为1.5Kohm。 2. **机器放电模式(MM: Machine Model)**:该模型模拟的是机械设备产生的静电释放。然而随着工艺技术的发展,这种方法逐渐被元件充电模式(CDM)所取代。 3. **元件充电模式(CDM: Charge-Device Model)**:这种测试方式是针对芯片或裸片自身由于摩擦或其他原因积累电荷,在接触接地导体时发生的放电现象进行的。该模型的特点在于时间短、电流脉冲高且波形不固定,不同器件间差异显著。 4. **电场感应模式(FIM: Field-Induced Model)**:这种测试方式相对较少被提及,主要用于描述外部电场变化对集成电路的影响。 #### 五、CDM防护设计难点 1. **自发性**:由于CDM是由内部积累的电荷引起的放电过程由芯片自身结构和电容特性决定,所以其波形没有固定形状。 2. **从内向外释放**:与HBM及MM不同的是,在这种情况下静电是从芯片内部向外部释放。因此需要在设计中考虑如何建立有效的泄流路径来防止过高的电流脉冲。 #### 六、封装后与未封装裸片的CDM差异 对于已经封装好的IC和尚未经过封装处理的裸晶,它们之间存在不同的电荷积累机制及放电特性。针对这两种情况需要采取不同策略进行防护设计。

全部评论 (0)

还没有任何评论哟~
客服
客服
  • -ESD-
    优质
    本指南全面解析集成电路中的ESD(静电放电)问题,深入探讨其原理、相关器件特性、防护电路设计以及制造工艺要点。 ### 集成电路ESD基础知识综合解析 #### 一、ESD简介及危害 静电放电(ESD:Electrostatic Discharge)是集成电路设计与制造领域中的一个重要概念,也是导致电子元器件或系统受到电气损伤的主要原因之一。由于静电放电时电压极高(通常超过几千伏特),这种损害通常是毁灭性的且不可逆的,可能会直接烧毁电路。因此,在IC的设计和生产中防止ESD造成的破坏至关重要。 #### 二、ESD防护机制 为了保护集成电路免受静电影响,设计者会在电路里加入专门的ESD保护元件。这些保护元件能在外部出现静电时起到自我防御的作用,类似于安装“避雷针”。其中,二极管是常用的ESD防护组件之一。 - **PN结击穿**:PN结的击穿可分为电击穿和热击穿两种类型。前者包括雪崩击穿(适用于低浓度材料)及齐纳击穿(适用于高浓度材料)。这两种方式都是由于载流子碰撞产生的新电子—空穴对导致,是可逆的过程。而后者则是不可逆的,因为它会导致硅因过热熔化。 - **限制电流**:为了确保电路的安全性,在保护二极管上通常串联一个高阻抗电阻来控制通过保护元件的最大电流值,避免由于高温引起的损坏。 #### 三、ESD布局与位置 在设计中,用于防止静电的保护电路一般放置于芯片输入端的Pad附近而不是内部。这是因为外部的静电需要尽快被释放掉;如果放在内部可能会导致延迟。此外还可以设置多级防护以提供更高级别的保护措施。 #### 四、ESD测试标准 根据产生方式及其对电路的影响,ESD测试通常分为以下几种类型: 1. **人体放电模式(HBM: Human-Body Model)**:该模型模拟了由于人与物体摩擦产生的静电释放到芯片上的情况。这种现象在日常生活中较为常见。工业界一般采用MIL-STD-883C method 7506标准进行测试,其中规定等效人体电容为100pF,电阻为1.5Kohm。 2. **机器放电模式(MM: Machine Model)**:该模型模拟的是机械设备产生的静电释放。然而随着工艺技术的发展,这种方法逐渐被元件充电模式(CDM)所取代。 3. **元件充电模式(CDM: Charge-Device Model)**:这种测试方式是针对芯片或裸片自身由于摩擦或其他原因积累电荷,在接触接地导体时发生的放电现象进行的。该模型的特点在于时间短、电流脉冲高且波形不固定,不同器件间差异显著。 4. **电场感应模式(FIM: Field-Induced Model)**:这种测试方式相对较少被提及,主要用于描述外部电场变化对集成电路的影响。 #### 五、CDM防护设计难点 1. **自发性**:由于CDM是由内部积累的电荷引起的放电过程由芯片自身结构和电容特性决定,所以其波形没有固定形状。 2. **从内向外释放**:与HBM及MM不同的是,在这种情况下静电是从芯片内部向外部释放。因此需要在设计中考虑如何建立有效的泄流路径来防止过高的电流脉冲。 #### 六、封装后与未封装裸片的CDM差异 对于已经封装好的IC和尚未经过封装处理的裸晶,它们之间存在不同的电荷积累机制及放电特性。针对这两种情况需要采取不同策略进行防护设计。
  • 制造.rar
    优质
    本资料深入剖析了集成电路制造的核心工艺流程和技术要点,涵盖从设计到成品的关键步骤,适合电子工程专业人员及对此领域感兴趣的读者学习参考。 集成电路制造工艺包括金属化与多层互连、光刻与刻蚀工艺、外延生长以及化学气相沉积技术。此外还包括离子注入技术和扩散工艺,氧化也是其中的重要步骤之一。
  • 制造的
    优质
    《集成电路制造的工艺原理》是一本详细阐述半导体器件及集成电路制造技术基础理论与应用实践的专业书籍。该书深入浅出地介绍了从材料准备到最终封装测试的各项关键技术步骤,帮助读者全面理解并掌握集成电路生产的复杂流程和核心工艺原理。 第一章:外延及CAD——4学时 第二章:氧化、扩散及离子注入——8学时 第三章:光刻——4学时 第四章:刻蚀——2学时 第五章:金属化、封装与可靠性——2学时 第六章:N阱CMOS工艺流程——2学时 第七章:硅器件制造的关键工艺——4学时
  • CMOS(长)
    优质
    本教程详尽解析CMOS集成电路的基本原理与设计方法,涵盖制造工艺、逻辑门电路及应用实例,适合初学者和专业工程师参考学习。 集成电路的基础知识总结得很好。CMOS是Complementary Metal-Oxide Semiconductor的缩写,在业余电子制作中我们经常会用到它。这里将系统、详细地介绍一些关于CMOS集成电路的基本知识及其使用时需要注意的事项。
  • 测试
    优质
    《集成电路测试原理详解》一书深入浅出地解析了现代集成电路的测试技术与方法,涵盖从基础理论到实际应用的全面知识。 集成电路(Integrated Circuit,简称IC)是现代电子技术的核心,在计算机、通信、汽车及医疗设备等领域广泛应用。为了确保这些IC在实际应用中的性能与可靠性,必须进行严格的测试。本段落将深入探讨IC测试的基本理论,包括数字集成电路测试、存储器和逻辑芯片测试、混合信号芯片测试以及射频无线芯片测试。 一、数字集成电路测试基本原理 数字集成电路主要由逻辑门电路、触发器及计数器等组成。其测试旨在验证功能是否正常且性能达标。方法通常涉及功能测试与参数测试,前者通过输入特定的向量观察输出结果以确认预期逻辑关系;后者则测量IC的工作速度、功耗和噪声容限等参数,确保符合设计规格。 二、存储器及逻辑芯片测试原理 存储器芯片测试包括RAM(随机访问内存)和ROM(只读记忆体)。对于RAM而言,需要检查每个单元的读写功能以验证数据完整性;而对ROM则需确认预编程信息无误。逻辑芯片测试通常结合使用逻辑分析仪与自动测试设备(Auto Test Equipment, ATE),进行功能覆盖及故障覆盖率分析,确保其逻辑实现正确。 三、混合信号芯片测试原理 混合信号芯片融合了数字和模拟电路特性,因此测试更为复杂。需对数字部分的功能验证以及模拟部分的性能评估进行全面考虑。例如,ADC(模数转换器)和DAC(数模转换器)的关键指标包括线性度、转换速率及噪声表现等;同时还要关注电源抑制比与共模抑制比等因素以确保混合信号稳定性。 四、射频无线芯片测试原理 射频无线芯片涉及频率合成、功率放大以及调制解调等功能。其测试通常涵盖射频性能(如响应特性,增益和带宽)、标准兼容性检查及功耗分析等环节。进行此类评估往往需要用到网络分析仪、信号源与频谱分析仪等多种专业仪器设备。 综上所述,集成电路测试是一项涉及数字逻辑学、模拟电路以及射频技术等多个领域的综合技能。其目的不仅在于发现潜在问题,更重要的是确保IC的质量和可靠性以满足日益复杂且严格的电子产品需求。通过深入了解并掌握上述测试原理,有助于优化测试流程提高生产效率降低失效风险,并为集成电路产业的发展提供强有力的技术支持。
  • 制造技术:
    优质
    《集成电路制造技术:原理和工艺》一书深入浅出地介绍了半导体器件及集成电路的基本原理与制造工艺流程,旨在为读者提供全面的技术指导。 本段落系统地介绍了当前硅集成电路制造所采用的工艺技术。第一单元主要介绍硅衬底的相关内容,包括硅单晶的结构特点、单晶硅锭的拉制以及体硅片和外延硅片的制造工艺及相关理论。第二至第五单元则详细阐述了硅芯片制造的基本单项工艺(如氧化与掺杂、薄膜制备、光刻等)的原理、方法及设备,同时介绍了这些技术所依赖的基础知识和技术发展趋势。附录A通过制作双极型晶体管为例,概述了微电子生产实习中的全部工艺步骤和检测技术。
  • - 关旭东
    优质
    《硅集成电路工艺的基本原理》是由关旭东编著的专业书籍,深入浅出地介绍了硅集成电路制造技术的核心理论和实践方法。 这段文字介绍了硅工艺的过程,包括硅的简介以及硅中的扩散方法等内容。
  • 知识复习.doc
    优质
    该文档《硅集成电路工艺基础知识复习》涵盖了硅集成电路制造的基本原理、流程和技术要点,适用于学习和复习相关课程内容。 硅集成电路工艺基础复习文档涵盖了硅集成电路制造的基本原理和技术流程,旨在帮助读者系统地理解和掌握相关知识。该文档详细介绍了从材料准备到成品测试的各个阶段的关键步骤与技术要点,并结合实际案例进行深入剖析,使学习者能够更好地将理论应用于实践当中。
  • 厂BMSBMU与LECU
    优质
    本资料详尽解析了原厂BMS(电池管理系统)的核心架构,特别关注BMU(电池管理单元)和LECU(本地能量控制单元)的电路设计,为工程师提供深入的技术参考。 BMS原理图包括LECU和BMU的原理图,这些是原厂汽车BMS的实际设计图纸,值得借鉴和参考。
  • 测试题
    优质
    《集成电路工艺测试题》是一套全面检验工程师对半导体制造流程理解与应用能力的专业试题集,涵盖从设计到封装各个环节的关键知识点。 集成电路工艺期末试题集以及半导体工艺/制造技术习题集。