
激光退火在半导体中的应用
5星
- 浏览量: 0
- 大小:None
- 文件类型:PDF
简介:
激光退火技术是一种利用高能量密度激光束对半导体材料进行局部加热处理的技术,广泛应用于改善薄膜晶体管性能、制造高性能集成电路及新型电子器件等领域。
尽管对半导体元件的激光退火进行了深入的研究,但目前尚未将其应用到任何生产线中。然而,这项技术已经促使了器件样机的研发,并且人们对其基础物理学有了更深刻的理解。进一步的发展可能会开辟新的制造半导体的方法,利用激光退火来消除在掺杂和晶体生长过程中产生的缺陷。
全部评论 (0)
还没有任何评论哟~


