光刻技术详解，中科大内部课程，内容全面
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简介：
本课程由中科大精心打造，深入浅出地讲解光刻技术的方方面面，适合希望全面了解和掌握光刻原理与应用的技术人员及学生学习。
本课程聚焦于超大规模集成电路制造中的先进光刻技术，并涵盖相关的理论、设备、材料以及测量与控制等方面的内容。为了满足当前先进的光刻需求，课程将重点讲解在14纳米及以下节点中广泛应用的计算光刻技术、分辨率增强技术和设计-工艺联合优化等关键技术。
授课目标是让学生掌握光刻技术的基本原理，并深入探讨计算光刻的相关知识。
授课对象为微电子学与固体电子学专业的研究生以及集成电路制造领域的相关专业人员。
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